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61.
张颖  欧阳嘉 《功能材料》1994,25(4):296-299
采用单离子晶场跃迁模型,拟合出钇铁石榴石(YIG)薄膜材料的光吸收谱,与实验谱吻合得较好。从实验和理论上分析了(BIAI)YIG 薄膜材料的光吸收谱,结果表明,Al3+离子的作用如同稀释剂一样,减小了光吸收,Bi3+离子由于其强的自旋轨道耦合作用,增大了跃迁振子强度和跃迁线宽,从而增大了光吸收损耗,在此基础上所作的(BiAl)YIG的理论谱与实验谱符合得较好。  相似文献   
62.
介绍了新型的薄膜微型电源的工作原理、结构及制造工艺。  相似文献   
63.
High-T c Bi(Pb)-Sr-Ca-Cu-O thin films have been made on single-crystal MgO substrates using high-pressure dc sputtering technique. X-ray studies confirm the crystallinity and highly oriented structure withc-axis perpendicular to the substrate. By optimizing the annealing schedule the formation of the high-T c phase is stabilized. The best film exhibited superconducting transition temperature with zero-resistance temperature,T c(0), as high as 101 K. Temperature dependence ofJ c indicates the presence of Josephson-type weak links.  相似文献   
64.
扫描电子显微研究表明,化学汽相沉积的金刚石薄膜中晶粒大小比较均匀。但随着沉积时间和薄膜厚度的增加,晶粒逐渐变大,且每一层内,存在少量的大金刚石颗粒,讨论了晶粒尺寸变化和大晶粒形成的原因和机制。  相似文献   
65.
研究了超声波对化学镀Ni-Cr-P非晶态薄膜的金刚石性能的影响。结果表明,超声波可使金刚石表面非晶态薄膜更加均匀和致密,从而提高了抗压强度,氧化温度和晶化后的强度。随超声波频率的增加,金刚石性能有增加的趋势。  相似文献   
66.
氧化铅丝生产过程中最关键的工艺是连续阳极氧化。氧化膜击穿电压决定于氧化膜厚度。控制膜厚度的三要素为:电解液(成份、浓度及温度),槽电压和铝丝走速。  相似文献   
67.
本文研究了采用锁定放大相干检测技术的等离子体光发射谱检测系统。用该系统检测了仅用CF4作为刻蚀气体刻蚀非晶硅基薄膜的等离子体光发射谱。分析了检测结果和刻蚀机理。  相似文献   
68.
对油膜轴承密封出现的进水、漏油现象作了大量的调查、测量和统计分析,找出了产生质量事故的根本原因,提出了解决措施。  相似文献   
69.
Measurements of the thermal diffusivity of thin films on substrate have been performed by the photoacoustic method. In order to examine the method we have built a new apparatus and proposed (1) a system calibration procedure using optically and thermally thick reference samples and (2) a data analysis procedure based on the RG (Rosencwaig and Gersho) theory. As a result of using a transparent photoacoustic cell, the systematic errors which are caused by stray light have been reduced. With this apparatus, measurements have been performed on platinum, titanium, and stainless steel (SUS304) thin foils (thickness form 50 to 100 µm) with three different liquid backing materials (water, glycerol, and ethyl alcohol). The reproducibility was within ±7% regardless of film thickness and substrate materials.  相似文献   
70.
薄膜磁头磁轭制备工艺研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
本文重点讨论了用不同的工艺方法来制备薄膜磁头中的关键元件-磁轭。采用多次光刻的方法克服湿法工艺中磁性膜NiFe层的侧向钻蚀问题,从而实现对磁轭几何尺寸的精确控制,并对几种工艺方法的优缺点作了比较详细的分析。  相似文献   
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