耐瞬态核辐照光纤的制备和测试

本文叙述用ＰＣＶＤ法制备的耐瞬态核辐照光纤。光纤包层为Ｆ掺杂，纯ＳｉＯ２纤芯，低ＯＨ－根含量，经核辐照后的实验结果表明，光纤瞬态峰值感应损耗最低为３．４ｄＢ／ｍ·ｋｒａｄ。文中还讨论了制备中的几个问题。     

直流热阴极PCVD法制备金刚石厚膜

建立和发展了非脉冲式的直流热阴极PCVD(PlasmaChemicalVapourDeposition)方法。通过采用温度为110 0℃～ 15 0 0℃的热阴极以及阴极和阳极尺寸不相等配置 ,在大的放电电流和高的气体气压下实现了长时间稳定的辉光放电 ,并用这种方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜 ,其厚膜直径为 4 0mm～ 5 0mm ,膜厚为～ 4 .2mm ,生长速率最高达到 2 5 μm/h左右 ,在 5 μm/h～ 10 μm/h的生长速率下制出的金刚石厚膜 ,热导率一般在 10W/K·cm～12W /K·cm。高导热金刚石厚膜用做半导体激光二极管列阵的热沉和MCM的散热绝缘基板 ,明显地改善了它们的性能     

PCVD技术在模具强化中的应用与进展

介绍了等离子化学气相沉积技术的基本原理,对此技术用于模具强化进行了探讨,并具体阐述了该技术在冷作模具、热作模具、结构复杂塑料模上的应用状况,指出正确运用PCVD技术是提高模具使用寿命的一个有效途径。     

CHN薄膜化学结构和成分分析

采用外置式电容耦合低压等离子化学气相沉积法制备非晶CHN薄膜.X射线光电子能谱仪分析表明薄膜表面C、N和O的相对含量比,同时随着N2/CH4比例增大,薄膜中N元素的含量逐渐增加;并且对薄膜中存在的C-N共价键进行了讨论;傅里叶红外透射光谱分析表明薄膜中存在C-N键和其他官能团;拉曼光谱分析表明随着N2/CH4比例增大,D峰和G峰的中心位置先远离然后靠近,并且D峰和G峰的面积比逐渐增加,源于薄膜无序度增加且逐渐趋于石墨化.     

不同氩气与氢气流量比对硼掺杂纳米金刚石膜的影响

采用直流热阴极PCVD方法,以B(OCH3)3作为硼源,通过改变氩气与氢气流量比,在p型Si衬底上沉积了硼掺杂纳米金刚石膜.研究了不同氩气与氢气流最比对掺硼金刚石膜生长的影响.采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、X射线衍射仪、霍尔系统等对样品的形貌、结构和导电性能进行了表征.结果表明,随着氩气与氢气流量比的增加,膜的晶粒尺寸由微米级向纳米级转变,并且膜中非晶碳成分增多,膜的导电性能变好.     

高硅钢的PCVD制造工艺及其电磁性能

采用正交试验法对ＰＣＶＤ等离子体增强化学气相沉积渗硅的工艺进行了优化。在４０％ＳｉｎＨ２ｎ＋２＋６０％Ａｒ（质量分数）渗硅源中，电工钢于４８０℃ＰＣＶＤ处理４０ｍｉｎ，其表面可形成厚２０μｍ富硅层，再经１１００℃扩散１ｈ，电工钢铁损下降４９．５％Ｂ２５００提高６５％，电磁性能得到极大的改善。     

挤压轮表面PCVD法制备T(iCN)涂层组织与性能

通过挤压轮的失效形式分析,表面裂纹是引起其失效的主要原因。应用PCVD法对挤压轮(H13)进行表面改性处理,在其表面备制了一层T(iCN)涂层。通过扫描电镜观察T(iCN)涂层表面的形貌以及断口组织形貌,用EDS对其化学元素进行能谱分析,测试了T(iCN)涂层表面显微硬度和粗糙度。结果表明T(iCN)涂层中所含Ti元素的质量和原子百分比为最多,涂层界面结合良好,其表面硬度为1004HV,粗糙度为1.23μm,有利于改善其疲劳性能和延长使用寿命。     

微波PCVD法大尺寸透明自支撑金刚石膜的制备及红外透过率

采用微波PCVD方法制备出直径50mm膜厚300um的大尺寸透明自支撑金刚石膜.在甲烷体积分数2%的条件下制备的透明自支撑金刚石膜经过两面抛光后在500cm-1-4000cm-1红外波段范同内红外透过率达到70%,但是其生长速率只有1um/h-2um/h.在体积分数4%甲烷浓度下制备的自支撑透明金刚石膜,其生长速率达到7um/h～8um/h,经过两面抛光之后膜厚为260um的金刚石膜的在500cm-1～4000cm-1红外波段范围内红外透过率达到60%左右,而且膜中心和边缘区的红外透过率基本相同.这些结果为大尺寸金刚石厚膜在红外窗口上的实际应用奠定了基础.     

金属有机物PCVD法沉积Ti(CN)涂层

应用PCVD技术,以金属有机物TPT作钛源在H13模具钢表面沉积Ti(CN)涂层,研究了不同工艺参数对涂层组织和性能的影响,并对涂层的抗氧化性进行了实验.结果表明,采用适当的沉积温度、压力及氮气流量,可以在H13钢表面得到以Ti(CN)为主的致密涂层,在沉积温度500℃时达到最高硬度HV1760,涂层在600℃以下具有良好的抗氧化性.     

PCVD复合渗镀刀具表面强化

研究了PCVD复合渗镀高速钢刀具表面强化方法。复合渗镀层由（Ti，Si）N镀层和离子渗氮层组成。研究了Ti／Si对（Ti，Si）N系镀层的硬度、组织形貌、抗氧化性能和结合力的影响。切削试验结果表明，复合渗镀处理可显著改善高钢刀具切削性能，提高刀具寿命。