X射线光刻掩模背面刻蚀过程中的形变仿真

开发了理论模型以验证有限元方法用于X射线光刻掩模刻蚀过程数值仿真的正确性。利用相同的有限元技术，对X射线光刻掩模的背面开窗、Si片刻蚀过程进行数值仿真。结果表明，图形区域的最大平面内形变(IPD)出现在上、下边缘处，最大非平面形变(OPD)出现在左、右边缘处。此外对Si片单载荷步刻蚀和多载荷步刻蚀的仿真进行比较，结果表明图形区域最终的形变量与Si片刻蚀的过程无关。     

几款视频处理DSP性能及应用对比

随着科技的发展．DSP已得到了越来越多的应用．本文详细介绍了DSP的市场发展现状及不同产品的特色．值得一读。     

TCL系列新机一览

TCL公司在今年4月22日的北京产品发布会上，发布15款新品手机。其中大部分都已在杂志上亮过相，这里为大家介绍一下其中的蒙宝欧S500，吉祥如意系列5188、5288及凯旋系列CDMA2000 1X手机1868、1888。     

冰点与沸点——NV3X失落的一生（上）

NV3X,一个给人以没落贵族感觉的显示核心体系,它是近年来少有的让业界如此盼望却又如此失望的产品,虽然其后继者NV40确实性能强劲而且为其东爱美NVIDIA挽回了不少面子,但其所经历的失败却无法让NVIDIA忘却。导致这次失败的原因有很多,这其中包括NV3X自身设计的缺陷,NVIDIA对于市场判断的失误,以及NVIDIA和微软之间的种种瓜葛……随着NV40的逐步上市,NV3X正从一个贵族慢慢变为平民。现在,不妨让我们针对其对手R3XX来分析一下这位走下神坛的没落贵族的缺陷以及其后继者的改进吧。还记得NV35发布会上演示的那个Demo么?掌管火和冶炼的神Vulcan虽然手执神锤,全身喷火,但面对着滋扰他工作的小虫子依然无可奈何。这似乎昭示了NV3X的命运,纵使有眩目的特性、新奇的功能,但其设计上的缺陷依然导致了在DX9中的差劲表现。那么,NV3X效能低下的根源究竟在哪里呢?     

首届中国国际应用激光、光电技术贸易博览会暨研讨会亮相上海斯国际博览中心

市刊一直致力于促进国内外学市交流。沟通科研单位、生产部门和用户的联系，促进激光与光电子事业的发展。为了进一步提升市刊的品牌影响力，枳校融入光学币斗技产业链．为我国激光与光电产业的发展贡献一份力量．市刊特推出“热点聚焦”栏目。近期在上海新国际博龉中心举办的首届中国国际应用激光、光电技带贸易博监会暨研讨会成为我们关注的热点话题。[编者按]     

CDMA2000 EV-DO系统与1X系统反向功率控制机制比较

文章对比了CDMA2000EVDO系统及1X系统反向功率控制机制的异同，并结合功率控制过程对EV—DO系统的反向外环功率控制参数进行了描述。     

紫外有机薄膜激光器

已经证实，由有机化合物组成的激光活性固体材料，在整个可见光谱区具有产生激光的能力。它们的潜力来自内在的优点，如有机化合物的调谐范围宽，有多种化合物可用，易于做工程实际装置。缺点包括实现直接电激励困难，以及缺少在紫外区发射的化合物。     

活力旋风——松下X77

夏季，一个激情四溢的季节，各种各样的体育运动成为了这个季节里那些活力四射的年轻男女们的首选休闲活动。这不，激战正酣的欧锦赛又让球迷们疯狂了一把！为迎合这股运动风，松下又不失时机地推出了其具有运动意义的新款手机X77！