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This paper simulates a kind of new sub-50 nm n-type double gate MOS nanotransistors by solving coupled Poisson-Schrödinger equations in a self-consistent manner with a finite element method, and presents a systematic simulation-based study on quantum-mechanical effects, gate leakage current of FinFETs. The simulation results indicate that the deviation from the classical model becomes more important as the gate oxide, gate length and Fin channel width becomes thinner and the Fin channel doping increases. Gate tunneling current density reduces with the body thickness decreasing. Excessive scaling increases the gate current below Fin thickness of 5 nm. The gate current can be dramatically reduced beyond 1017 cm−3 with the Fin body doping increasing. In order to understand the influence of electron confinement, quantum mechanical simulation results are also compared with the results from the classical approach. Our simulation results indicate that quantum mechanical simulation is essential for the realistic optimization of the FinFET structure. 相似文献
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通过总结张家口发电厂第一台机组投产以来锅炉“四管”爆漏发生的次数、原因,分析了在防止锅炉爆管方面采取的措施,肯定了目前取得的成绩,以供借鉴。 相似文献
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阻燃剂的现状与发展趋势 总被引:37,自引:0,他引:37
通过对无机燃剂和有机燃剂的现状的分析,指出了阻燃剂的无卤化和无机阻燃剂的开发及改性已成为阻燃剂最主要的发展趋势。 相似文献
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为降低空预器漏风率,从结构设计分折得出空、烟气压差大和密封间隙大是其漏风的主要原因,通过采取高压水冲洗,气脉冲燃气吹灰,双密封改造,空预器重新选型等一系列措施来降低漏风率。 相似文献
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