片上互连中Pre-emphasis电路的研究

随着SOC的发展,单个芯片上集成的内核越来越多,片上系统的复杂化对片上互连线的传输带宽以及可靠性提出了更高的要求.基于传输均衡原理的pre-emphasis技术通过在数据的发送端加强信号高频分量,衰减低频分量,能够有效地提高互连带宽,消除码间干扰.Pre-emphasis电路结构中的延时对电路性能有着很大的影响.通过对传输函数进行拉普拉斯变换,从理论上分析出存在使电路性能最佳的最优延时,该延时与信道的RC参数有关.基于SPICE的电路仿真表明,经过优化的pre-emphasis电路能够更有效地提高传输带宽,实现片上互连的高速传输.     

IDT70261在DSP高速实时通信中的应用

介绍了IDT70261的结构特点和基本功能，详细阐述了IDT70261的忙仲裁逻辑、双边中断逻辑和标识器逻辑，给出了一种基于IDT70261的TMS320LF240X和TMS320C54X之间高速实时通信接口设计以及软件实现方案。     

一种基于优化参差比的改进MTI滤波器

杂波的抑制 ,无论是从抗干扰还是提高雷达系统改善因子来说都是必不可少的。抑制杂波的同时为了避免陷入盲速区的目标损失过大 ,提出了一种基于优化参差比的MTI滤波器 ,该滤波器可在杂波谱中心形成随杂波散射元均方根速度展宽的凹口以抑制杂波 ,并利用参差脉冲将盲速推到三倍音速以外 ,而且通过最优参差码的选择使第一零点尽可能的浅 ,从而防止陷入凹口的弱目标丢失 ,最后通过对搜索最优参差比的简化 ,使运算量至少减少一半。仿真结果和性能分析验证了该算法的可行性和有效性     

并行多控制器光盘阵列系统

介绍了一种新型的并行多控制器光盘阵列系统。在传统的光盘阵列系统中,往往采用单一控制器控制多驱动器阵列系统,但主机对于连接的驱动器数目有特定限制,对阵列整体性能也有所限制。该系统中采用并行多阵列控制器组成光盘阵列。试验证明,采用该方法设计的光盘阵列相对于传统的光盘阵列系统可以有效地降低系统的复杂程度,取得良好的控制效果。     

图形电镀铜的常见缺陷及故障排除

本文主要阐述印制电路板生产中图形电镀铜常见缺陷及成因,查找影响其品质的因素和工序并结合相关生产制定相应的预防措施,有效提高产品质量。     

计算机高速并行通信的实现方案

利用CPLD芯片实现单片机与ISA总线接口之间的高速并行通信，给出系统的总体设计方法及程序框图。采用这种通信方式，在12MHz晶振的MCS51单片机控制的数据采集系统中，可以满足与PCI04 ISA总线接口实时通信的要求，通信速率达200khit／s。在开发工具MAX plusⅡ下，完成了整个设计的输入、编译和仿真，达到了预期效果。本设计方案能够推广应用到计算机的高速并行通信中。     

高测速双频激光干涉仪的若干关键问题研究

新型的塞曼-双折射双频激光(DFL)器可连续输出频差3～40MHz的DFL,以这种激光器为光源的干涉仪允许的最高测速可达4m／s或更高。激光器输出的是两正交的线偏振光,针对这一特性设计装词了系统光路,观察到理想的频移现象。已有外差信号处理方法均不能移植用于处理中频差,改进大数对减法使之适合于处理中频差外差信号,得到50MHz以内无累积误差的计数结果。     

一种高精度位置环系统

简要叙述了高精度位置环系统的组成方法,详细阐述了光电编码器在位置环中的应用原理和速度修正方法。概述了单片机及串行D／A的应用。     

扫描速度对激光熔覆WC-B_4C-Co涂层显微组织和性能的影响

本文介绍用CO_2激光器对20~#钢表面涂敷WC-B_4C-Co进行的激光熔覆处理,对不同扫描速度下熔覆层的显微组织和性能进行了测试和分析。结果表明扫描速度对激光熔覆组织和各种性能影响特别显著。     

高速BiCMOS工艺研究

研究开发了一种准２μｍ高速ＢｉＣＭＯＳ工艺，采用自对准双埋双阱及外延结构．外延层厚度为２．０～２．５μｍ，器件间采用多晶硅缓冲层局部氧化（简称ＰＢＬＯＣＯＳ）隔离，双极器件采用多晶硅发射极（简称ＰＳＥ）晶体管．利用此工艺已试制出ＢｉＣＭＯＳ２５级环振电路，在负载电容ＣＬ＝０．８ｐＦ条件下，平均门延迟时间ｔｐｄ＝０．８４ｎｓ，功耗为０．３５ｍＷ／门，驱动能力为０．６２ｎｓ／ｐＦ．明显优于ＣＭＯＳ门．