关于《具有HMOS结构的MCS—51系列单片机提供后备电源的方法研究》的探讨

一、引言本刊1991年第1期刊登了文登敏同志的文章:《具有HMOS结构的MCS—51系列单片机提供后备电源的方法研究》。文章的核心是讨论:对于用HMOS结构的MCS—51系列单片机构成的微计算     

系统防崩溃就这几招

Windows每次升级,都打着稳定性大为提高的招牌。尽管如此,如果说系统经常性崩溃,全是系统软件的错,这恐怕也有点冤枉比尔大叔了。只要你操作得宜,维护有方,Windows系统也并不是那么弱不禁风、动辄死机的。只要你照着笔者以下列的几条来做,很快就会发现,你的系统也能益寿延年。     

一封邮件引发的评测——多彩DLP-315A／330A拆解测试

最近评测室收到不少读者的来信，说某媒体最近刊登了不少关于电源的所谓“黑幕”文章，涉及到数家知名电源厂商，例如多彩的DLP-315A、DLP-330A就名列其中。这些读者都很好奇——文章中提到的电源，真有那么差吗？为了解答读者的疑问，我们也到市场上买了两款电源——多彩DLP-315A、DLP-330A，进行拆解测试，看看这两款电源到底如何。[编者按]     

电源集中监控中终端设备组网的新构思

电信总局提出要实行电源维护集中监控,一些电源设备生产厂家已积极响应。但是,他们从自身利益出发,不能提供通信协议。有些电信局则偏重在计算机系统上研究,花了不少功夫,成功的却廖廖无几。 本文提出电源集中监控中终端设备组网的新构思——“智能运行网”,可以减少网路、降低造价,摆脱生产厂家不能提供通信协议的困扰。它已在绍兴市邮电局实施,并获得初步成功。     

自制赫尔槽试验用小整流电源

赫尔槽试验是一种简便、快速、效果较好的电镀试验方法。试验时所需溶液体积小、操作简便,并在一次试验过程中可以在宽广的电流密度范围内观察到镀层变化的情况,能够较快地确定获得合格镀层的电流密度范围及其它工艺条件。 赫尔槽试验是维护、控制、调整镀液及新工艺试验时经常使用的手段。因此,赫尔槽试验被广泛应用于研究镀液主要成分、添加剂及工艺条件对镀层的影响,寻找分析产生故障的原因。还可以分析研究镀液的光亮范围、电流密度、均镀能力等等,它对综合评定镀液的性能极为方便。     

煤矿企业供电初步设计

煤矿企业供电具有广泛的普遍性也有一定的特殊性 ,本文主要以煤矿为例详细介绍了企业供电初步设计的全过程 ,对于其它企业及民用建筑群的供电初步设计都有一定的参考作用