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激光处理非光滑凹坑表面耐磨试验的均匀设计研究 总被引:8,自引:0,他引:8
本文采用试验优化技术中的均匀设计方法,实施了影响凹坑非光滑表面耐磨性的多因素复杂试验。通过用统计分析软件SPSS(Statistical Package for the Social Sicence)处理试验数据,得出了激光处理仿生非光滑凹坑表面耐磨的多因素回归方程,发现速度、负荷、时间的凹坑圆周方向的距离对耐磨性有显著影响,凹坑轴向之间的距离对耐磨性影响不大。 相似文献
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报道了用分子束外延的方法制备3英寸HgCdTe薄膜的研究结果,获得的HgCdTe外延材料均匀性良好,在直径70mm圆内,组份标准偏差率为1.2%,对应80K截止波长偏差仅为0.1μm.经过生长条件的改进,表面形貌获得了大幅度改善,缺陷密刃∮00cm-2,缺陷尺寸小于10μm,可以满足大规模HgCdTe焦平面列阵的应用需求.抖 相似文献
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均匀设计法在烷基糖苷合成中的应用 总被引:2,自引:0,他引:2
在烷基糖苷的合成反应中,影响糖苷得率的因素很多,且各因素之间又存在着相互牵制作用。为了探索合成的最佳条件,我们采用了均匀实验设计法。实验证明:它特别适用于多因素多水平的实验设计,同时减少了实验的次数,降低了实验的费用,提高了工作效率。 相似文献
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