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针对电感耦合等离子体(ICP)的放电问题,设计了一种闭式透波腔体构型,建立了ICP的流体力学模型,并利用多物理场仿真平台COMSOL进行三维仿真研究。分析了放电过程中电子密度、电子温度和等离子体电势等典型参数随时间的变化规律,在此基础上改变射频电源的功率、腔体内气压等条件,获得ICP的参数范围以及空间梯度分布。结果表明,放电功率主要影响等离子体参数的数值范围,而气压的改变则对等离子体参数的数值和空间分布都会产生影响。当射频电源功率从100 W增加到300 W时,电子密度峰值从2.54×1017 m-3增加到5.68×1017 m-3,同时反应稳定后加热区感应出的电势和相应的电子温度呈现小幅降低;腔内气压在一定范围内升高会使得电子密度明显增加,气压从10 Pa增加到30 Pa,电子密度从9.12×1017 m-3上升到3.62×1018 m-3,但气压过高会导致等离子体参数分布的均匀性变差。 相似文献
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简要介绍铜电解工业生产的特点及使用短路导体的原因,分析电解槽上使用的短路导体之技术要求,提出铜电解槽短路导体的设计注意事项,并给出改进设计实例。 相似文献
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用自制的激光束偏转法测量衬底形变弯曲系统,测量了等离子增强化学汽相淀积(PECVD)SiN 膜的应力,反应气体为硅烷和氮气,结果表明:SiN 的应力为压应力,介于1~3×10~9N/m~2,应力的大小依赖工艺条件,如淀积温度、气体组分等,SiN 的本征应力也是压应力,数值为1.1×10~9N/m~2,最后,建立了用于解释本征应力的定性模型——等效晶粒模型,成功地说明了 SiN 膜的应力形成。 相似文献
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添加剂对阴极铜质量影响的分析与探讨 总被引:1,自引:0,他引:1
根据铜电解精炼中添加剂的行为和作用机理,结合北方铜业侯马冶炼厂生产实践,分析探讨添加剂对阴极铜质量的影响,并进行添加剂的调控试验,确定了最佳添加剂用量和配比,阴极铜质量得到明显提高. 相似文献