一种高端芯片厂洁净室设计提案构想介绍

从高端芯片厂工艺需求与污染控制的角度出发,检视目前芯片厂洁净室的设计概念后,提出另外一种洁净室设计的提案构想,以为业界参考。     

积层板的制造方法

概述了积层板的开发背景、制造工艺和最近的开发动向。     

用于工艺流程自动生成的排序算法

文章介绍了一种工艺流程的自动排序算法。该算法将器件的结构作为输入信息,利用工艺库,得到可制造出该器件的工艺路线。该算法可应用于VLI制造的工艺流程卡自动生成。     

Direct Writing of Gallium‐Indium Alloy for Stretchable Electronics

In this paper, a direct writing method for gallium‐indium alloys is presented. The relationships between nozzle inner diameter, standoff distance, flow rate, and the resulting trace geometry are demonstrated. The interaction between the gallium oxide layer and the substrate is critically important in understanding the printing behavior of the liquid metal. The difference between receding and advancing contact angles demonstrates that the adhesion of the oxide layer to the substrate surface is stronger than the wetting of the surface by the gallium‐indium alloy. This further demonstrates why free‐standing structures such as the traces described herein can be realized. In addition to the basic characterization of the direct writing process, a design algorithm that is generalizable to a range of trace geometries is developed. This method is applied to the fabrication of an elastomer‐encapsulated strain gauge that displays an approximately linear behavior through 50% strain with a gauge factor of 1.5.     

我国PCB工业面临的“四大”挑战(4)——“减成法”技术的创新发展的挑战

概述了传统PCB"减成法"面临着严重的挑战,必须走制造技术创新才是根本的出路。制造技术创新要先走局部技术创新,改革技术落后(或不能满足产品技术指标)的制造方法。然后,从"量变到质变",使PCB走上"全印制电子"化,实现环保型和可持续发展的产业。     

锅炉外墙改造对能耗影响分析

本文通过锅炉外墙改造,对能耗进行跟踪分析,认为改变锅炉墙体构造,能有效提升热能利用,可实现节能降耗目的,这对企业控制生产制造成本,促进企业发展具有举足轻重的作用.同时对于其他行业的设备工艺改进具有借鉴作用;对于锅炉制造或改造具有参考价值.     

数据挖掘在芯片生产过程数据分析中的应用

介绍了如何使用基于粗糙集理论数据挖掘技术,对生产线的生产率和成品率进行快速的预测.在出现产量突然降低时,使用统计分析方法迅速找到使其降低的主要原因,然后就可对其采取有效的措施,从而满足高产量的要求.     

基于半导体生产管理的数据仓库技术

描述了计算机集成制造(CIM)系统的体系结构及主要功能，提出了一种改进现有数据库管理系统的新型数据仓库设计技术。通过把在线事务处理数据库(OLTP)选择性地增量备份到一个临时的缓存(Cache)数据库，把Cache数据库中的数据增量提取到操作数据存储(ODS)数据仓库中，客户端通过水晶报表服务器或微软OLAP服务器，可直接访问ODS数据库中面向主题集成的各种事实型数据。通过Cache数据库，避免了OLTP数据库与ODS数据库的直接链接，减小了ODS数据仓库数据组合与计算对OLTP数据库的性能影响，最大限度地提升了OLTP数据库的效率，满足了生产线对OLTP数据库的高性能要求。     

单晶硅各向异性腐蚀的微观动态模拟

根据单晶硅各向异性腐蚀的特点,以晶格内部原子键密度为主要因素,温度、腐蚀液浓度等环境因素为校正因子,建立了一个新颖的硅各向异性腐蚀的计算机模拟模型。在VC++开发环境下利用OpenGL技术,实现了硅各向异性腐蚀过程的三维微观动态模拟,为深刻理解硅的各向异性腐蚀过程提供了直观的界面。