圆形加工件自动焊接装置在煤矿生产中的应用

为了提高圆形加工件焊接效率、减轻焊工劳动强度,本文研发了圆形加工件自动焊接装置,自动焊接装置主要由CO₂焊机、电气控制、传动系统、无线接地、旋转圆盘、焊接调节支架等部分组成。作业人员按下无线遥控器启动按钮,焊机与驱动电动机同时带电,焊接控制系统通电产生焊接火花,电动机带动圆盘进行旋转。圆形加工件在沿焊枪环绕运动一周后,限位开关动作,向电动机和焊机发出反转信号,电动机反转,圆形加工件进行第二遍焊接。自动焊接装置在满足设定功能的前提下,性能好、效率高、质量轻、成本低,在现场生产使用中具有安全可靠、操作方便、维修简单和造型美观等特点。研究开发的自动焊接装置,是将电动机的传动与自动焊接为一体化的机电设备,广泛用于煤矿风水管三通、铁柱鞋、圆形接头等焊接作业,在煤矿行业中有着广泛而重要的应用。     

塔河南油田低阻油气层成因分析

根据塔河南油田特点,在对大量实验数据资料分析对比的基础上,对塔河南油田中低阻油气层成因机理进行了分析,认为储层电阻率低的原因主要有:地层水矿化度高;岩性细,相对束缚水含量较高;粘土类型和附加导电性;油藏圈闭幅度低,油气充满程度低等。这为测井识别低阻油层提供了科学依据。     

瞬变电磁法在探测煤矿采空区中的应用

瞬变电磁法是目前工程勘察中应用较广的物探工作方法之一。该方法观测纯二次场,故分辨率高,可分辨出地下规模较小的不均匀体,尤其对低阻地质体反应灵敏。采空区地层有其独特的地电特征,可以利用瞬变电磁法进行探测。笔者将瞬变电磁法用于新汶某煤矿边界老窑采空区探测及河北某城镇采空区圈定,均取得良好的效果。     

简支双轴对称焊接工字型钢梁的设计

从梁的经济高度hec入手,利用梁的翼缘主要作用是平衡弯矩M、腹板的主要作用是承受剪力V的特点,而一般情况下梁的剪力V较小,尽量减薄腹板,将材料尽量用在翼缘上,求出梁的最佳截面.     

大电流高速滑动电接触实验电源系统研制

为提供电接触大电流,驱动电磁轨道发射装置将试品加速到1～2km/s的高速以模拟速度转捩的发生条件,研制了用于大电流高速滑动电接触实验研究的1.5MJ脉冲电源系统。整个系统采用包括8个可程序控制电源模块的模块化结构,通过程序控制的方式,实现各模块的同步或时序放电,输出的脉冲电流波形幅值和脉宽均可调。利用建成的电源系统进行了短接调试实验及大电流高速滑动电接触初步实验,结果表明:电源可产生峰值>400kA、平顶时间>1ms的放电电流,能够满足大电流高速滑动电接触实验的要求。     

高压合金锅炉管热处理辊底式炉的设计

为了满足生产高压合金锅炉管的需要,攀钢集团成都钢铁有限责任公司金堂分公司建造了1座辊底式热处理炉。从炉型、燃烧系统以及仪表自动化与电气、机械设备设计等方面介绍了辊底式热处理炉的设计情况、投产使用的效果及产生的经济效益和社会效益。     

超高速滑动电接触CuCrZr合金轨道表面磨损机制及电接触性能

电磁轨道发射具有典型超高速滑动电接触特性（出口速度大于等于2 000 m/s）,电磁轨道表面会发生磨损。为研究轨道表面磨损状态与接触电阻之间关系,通过开展电磁轨道发射试验,研究发射后的CuCrZr轨道表面沉积层的形成与磨损机制,揭示枢轨间静态接触电阻的演变规律,总结沉积层的形成与接触电阻的关联关系。结果表明：沿着发射方向,轨道表面沉积层覆盖面积逐渐增大,沉积层的形成机制由摩擦材料转移变为电枢表面熔化飞溅,表面磨损特征由机械磨损向电气磨损转变;由于轨道不同位置沉积层形成原因不同,导致表面粗糙度分布不一致,枢轨间静态接触电阻随接触沉积层形貌特征改变呈现上升、下降及波动3个变化阶段;并且枢轨间静态接触电阻随着接触压力的增大而减小。研究成果对电磁轨道发射装备的研究及发射动力学研究具有理论价值。     

医用电气设备的安全设计

根据GB9706.1-1995要求,提出医疗电气设备设计中经常出现的一些问题,包括电击危险的防护、剩余电压和电磁兼容、机械危险防护、超温和其他安全方面危险的防护、工作数据的准确性和对不正确输出的防止、不正常的运行和故障状态等方面,并提供了一些相关的方法和建议。     

类石墨层状硼碳化合物的导电和抗氧化性能的研究

通过高温高压方法制备了一种晶化程度较高的类石墨层状BC3化合物.在5.5GPa压力条件下,温度越高,制得的硼碳样品晶化越好,电阻率越小.在1500℃、5.5GPa下制得的层状硼碳样品的电阻率ρ=1.2×10-4Ω·m,略大于同等条件下制备的纯碳样品的电阻率ρ=1.1×10-4Ω·m.这种层状硼碳化合物在620℃左右开始氧化,比纯碳样品的初始氧化温度高大约100℃,替代的硼明显的改善了碳的抗氧化性能.     

Ar气氛下直流磁控溅射ITO薄膜的结构和性能

采用直流磁控溅射法在低温、100%Ar的无氧气氛中制备了光电性能优良的铟锡氧化物(ITO,In2O3:SnO2=90:10,质量百分比)薄膜,详细探讨了溅射时改变氩气压强对ITO薄膜结构以及光电性能的影响.结果表明:溅射时氩气压强越小,ITO薄膜的体心立方晶型越完整,导电性越好,但对可见光透过性的影响不大.当氩气压强为0.3Pa时,溅射薄膜性能最佳,其光透过率可达92.9%,电导率为8.9×10-4Ω·cm.