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81.
We report the successful growth of Ga-polar GaN epilayers on O-polar ZnO templates pre-deposited on c-sapphire. Prior to GaN growth, NH3 is exposed onto the ZnO template. The polarity of the GaN layers is confirmed by etching of the surface and by conversion beam electron diffraction (CBED), while the O-polar ZnO is confirmed by CBED. It is suggested that the NH3 pre-exposure helps form a Zn3N2 layer, which possesses inversion symmetry and inverts the crystal from anion polar to cation polar.  相似文献   
82.
针对TPS/TDC30 0 0系统串口通讯方式、机理进行了一般性的介绍 ,对规划与应用中常见的的问题 ,根据实际工程应用经验提出了解决方案。  相似文献   
83.
在前新生代油气资源选区评价中,前志留面之下未变质沉积地层(简称前志留基础层)的分布具有重要的参考价值。从提高纵向分辨率的处理和反演技术的应用入手,结合约束条件,利用大地电磁测深数据反演,揭示前志留面等界面的埋深和分布;同时应用小波分析技术,从磁场中分解出区域磁异常,反演结晶基底的埋深。通过这2个界面埋深的差异来分析前志留基础层的分布  相似文献   
84.
The character of electronic states in porous silicon (PS)-Si, Pd-PS interfaces, and/or PS bulk at the formation of the metal-PS-silicon heterostructure was studied. The energy parameters were estimated using the deep-level transient spectroscopy and capacitance-voltage characteristics at the accounting of the voltage drop distribution along the structure. The analytical expression for voltage drop distribution along dielectric layer, porous layer and space charge region in silicon was obtained by solving the equation for continuity of the electrostatic induction vector. The electronic states studied were shown to manifest the quasi-continuous sub-band in the energy gap if the porous layer was 30-nm thick. Their density increased, as the energy position was being transformed to a deeper energy level of Ev+0.81 eV at the PS layer growing to 90 nm wide.  相似文献   
85.
网络虚接口对特殊数据包的处理起着很大的作用。文章介绍了网络虚接口的概念,在对传统的网络接口比较分析的基础上,设计和实现了一个基于量Linux的用于对发送数据包的内容进行特殊处理的网络虚接口。  相似文献   
86.
超声处理对RTM成型复合材料界面性能的影响   总被引:7,自引:3,他引:4       下载免费PDF全文
在RTM成型过程中采用超声技术。探讨了超声处理的最佳工艺参数,着重研究超声处理对RTM成型复合材料界面性能的影响。结果表明,在RTM成型过程中采用超声技术增加了树脂对纤维增强体的浸润性,使树脂中的空气和成型过程中产生的气泡易于排出,从而减少了复合材料的孔隙率,进而改善复合材料的界面性能。  相似文献   
87.
液晶显示器的接口技术及其抗干扰措施   总被引:16,自引:6,他引:10  
介绍了一般LCD与MCU的接口技术及其抗干扰措施,结合最近开发的绝缘油耐压测试仪中出现的CMOS自锁现象,提出了一种在强电磁场等特殊环境下,可靠使用液晶显示器的技术方法.  相似文献   
88.
一种可切削玻璃陶瓷的压痕断裂特性   总被引:4,自引:2,他引:2  
将断裂韧性测试的压痕方法与压痕弯曲方法相结合,独立地分离出了压痕残余应力因子x,使其成为可测参量,并建立了压痕一压痕弯曲的断裂韧性测试方法.将这种方法应用于一种可切削玻璃陶瓷的测试,获得的K1c值为K1c=2.03MPa·m1/2,与单边切口法(SENB)获得的K1c值有较好的一致性.测得的残余应力因子X=0.093,符合Anstis经验公式的预测.  相似文献   
89.
COM组件接口方法参数的数据类型的选择   总被引:1,自引:0,他引:1  
论述了在用 Visual C+ +建造 COM组件时 ,如何选择接口方法参数的数据类型的问题。结合客户程序是 ASP应用程序的情景 ,讨论利用 Visual C+ +和 ATL ,如何在组件程序的一端选择相应的数据类型。  相似文献   
90.
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