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101.
真空蒸镀SiOx膜的特性及加工应用 总被引:6,自引:3,他引:3
讨论了用于软包装的镀铝膜和SiOX镀膜,同时也讨论镀铝、镀SiOx的工艺方法和SiOx镀膜加工、应用。 相似文献
102.
103.
104.
文中通过使用几种粒度的氧化铝和氧化硅原料,试制了莫来石质浇注料,并对性能进行了评价。 相似文献
105.
106.
本文通过液晶模板法制备核壳型多孔二氧化硅,分析了多孔氧化硅在纳米颗粒表面的包覆特性.探究了表面活性剂与硅源的摩尔比(CTAB/TEOS)对多孔氧化硅壳层生长的影响,从实验上证实了多孔氧化硅壳层生长的最适摩尔浓度比随纳米颗粒尺寸的变化,并从表面活性剂与硅酸盐物种间的协同作用机制出发对此进行了阐释.利用扫描电子显微镜(SEM),透射电子显微镜(TEM),N2吸附脱附等分析方法,观察并分析了核壳多孔二氧化硅的形貌以及孔道结构.通过傅里叶变换红外光谱分析(FTIR),分析了多孔氧化硅的结构和组分. 相似文献
107.
采用模板法可制备孔径分布窄、中孔率和比表面积高的中孔碳。本文采用纳米氧化硅静电吸附十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)及乳液聚合制备不同纳米氧化硅含量的聚丙烯腈/纳米氧化硅复合粒子,进一步通过高温碳化和氢氟酸刻蚀得到高纯度的中孔碳。发现当纳米氧化硅添加量不超过单体质量的50%时,纳米氧化硅主要以被聚合物包覆的形式存在,所制备的中孔碳的比表面积均大于800m2/g,孔径在5~10nm之间;随着纳米氧化硅/单体质量比从30%增加到60%,所制得的中孔碳的总孔容从1.111cm3/g增加至1.949cm3/g,中孔率从66.0%增至82.4%。结合中孔碳的形貌分析,认为纳米氧化硅的模板作用是形成中孔的主要因素。 相似文献
108.
109.
110.
分别以晶态和非晶态SiO2为硅源,在高压釜中采用水热法合成Zn2SiO4:Mn荧光粉,并对其晶体结构、形貌、光吸收及光致发光性能进行表征. 结果表明,在220℃下反应6 d,以晶态SiO2合成的Zn2SiO4:Mn纳米颗粒呈六棱柱状,具有单晶结构,颗粒长约5~8 mm,平均直径约1 mm;以非晶SiO2合成的Zn2SiO4:Mn纳米颗粒呈多晶结构,平均长约500 nm,平均直径约100 nm. 2种硅源所制样品在250 nm以下的紫外光区具有强吸收,且非晶SiO2所制样品在250~350 nm具有良好的紫外光吸收能力. 以不同硅源低温制备的Zn2SiO4:Mn样品在波长215和250 nm的紫外光激发下均能产生520 nm的绿色荧光,且在相同反应时间下非晶硅源制备的样品发光较强. 相似文献