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锗是工业上第一个重要的半导体。具有良好半导体性质的第一个Ge晶体由Purdue大学研制茁莱并由贝尔实验室于1947年用它制出第一只晶体管。Ge是研究半导体性质的“模板”。贝尔实验室的Teal和Little于1948年首先用直拉技术生长出Ge单晶。近年来,在新型晶体管和光电应用方面,Ge又引起了人们的重视。 相似文献
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本文对多信道光纤环形网络结构进行了详细分析,推导出环网内平均路经长度和最大直径计算公式,并分析了最佳多信道光纤环网结构。 相似文献
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本文将等效介电常数近似分析方法在应用范围和处理方法上进行了一些改进.发展为双等效介电常数近似分析法,然后用它来分析矩形介质波导阵列.推得两个一维周期的耦合特征方程。如果将Macatili方法应用范围扩展用来研究该波导阵列也会得到同样的结果,它们都能在二维平面上较准确地反应出通带和阻带等主要周期特性。 相似文献
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证明了在连续蒸镀两层高,低折射率介质膜过程中,当第一层厚度不足λ/4厚时,刚开始蒸镀第二层膜时其反射率变化趋势与第一层膜相同,并由此展开,说明两层厚度不足λ/4的薄膜在很大程度上等价于一层λ/4的薄膜。 相似文献
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