YBa2Cu3O7—δ高温超导薄膜微桥结在微波辐照下的响应特性

采用偏轴直流磁控溅射原位生长ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ高温超导薄膜，以Ｈ３ＰＯ４为腐蚀液，采用化学湿刻工艺制作ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ高温超导薄膜微桥，微桥长１０μｍ，宽５μｍ，在８ｍｍ微波源的辐照下，除观察到整数常压台阶外，还观察到ｎ＝１／２，１／５，６／５，９／５等分数常压台阶，分数台阶的高度随微波功率的变化较整数台阶更敏感。     

Mo／SiO2软X射线多层膜的结构研究

本文用磁控射方法制备了几种Ｍｏ／ＳｉＯ２多层膜。在北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）的衍射站上测量了其氏角Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）谱，并利用基于光学动力学理论的递推公式对低角Ｘ射线衍射谱进行了拟合，定量分析了膜层的周期结构和界面度以及界面度与层数、层厚的关系。同时用高分辩电子显微镜（ＨＲＥＭ）对一样品的截面进行了观察。     

一种性能可调的新型节能材料－电致变色膜

本文介绍了一种性能可调的新型节能材料—电致色薄膜，描述了以其为核心的全固态灵巧窗结构、工作原理和光学调节性能，回顾了电致色材料、离子存储层和固态锂离子导体及其性质，并展望了这种新型节能材料的应用。     

反应离化团束（RICB）法生长CN硬质薄膜

用反应离化团束（ＲＩＣＢ）法，以低分子量聚乙烯为蒸发材料，氨气为反应气体，在ＮａＣｌ（１００）和Ｓｉ（１００）衬底上淀积Ｃ－Ｎ薄膜，透射电子衍射（ＴＥＭ）分析表明薄膜中含有β－Ｃ３Ｎ４晶粒，Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）和红外吸收谱（ＩＲ）表明存在Ｃ，Ｎ原子的化学键合。     

溅射——气体——聚集共沉积法制备金属／金属（介质）复合团簇镶嵌薄膜

提出了溅射－气体－聚集共沉积制备金属／金属（介质）复合团簇镶嵌薄膜的新方法，并利用该方法成功地在方华膜衬底上制备了系列Ｆｅ／Ａｇ及ＣａＦ２复合团簇镶嵌薄膜样品。透射电镜分析结果表明，样品中Ｆｅ（Ｃｕ）团簇都较好地镶嵌于Ａｇ（ＣａＦ２）基质中，其结构为两种材料的多晶共存形态。进一步分析发现，与块材相比，Ｆｅ／Ａｇ样品中Ｆｅ团簇晶格常数呈现出不同程度的收缩，而Ｃｕ／ＣａＦ２样品中Ｃｕ团簇晶格常数则呈现出不同程度的膨胀。运用附加压力的模型对该现象进行了解释。     

国际整流器公司全新MOSFET芯片延长笔记本电脑电池寿命20%

国际整流器公司(International Rectifier)推出适用于笔记本电脑的电源芯片,将笔记本电脑的电池寿命延长20%,是业内首个超越英特尔移动电源'99标准(Mobile Power Guideline 1999)的产品,该标准是英特公司特别为笔记本电脑的电源系统制定的。 新的低压HEXFET功率MOSFET产品有两种型号——IRF7805及IRF7807。这两个新产品的推出是基于对直流/直流转换器深入分析而提出的对栅电荷和通态电阻     

粉尘薄膜爆轰

与普通爆轰不同，粉尘薄膜爆轰波前氧化剂与燃料处于分离状态．由于激波作用下壁面燃料的注入才于壁面附近形成燃烧的粉尘云，燃烧释放的热使激波自持形成粉尘薄膜爆轰。本文在长2、8m，横截面20mm×20mm的方型水平激波管中对此类爆轰进行了实验研究．并根据作者建立的模型对其二维结构进行了数值模拟。