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101.
102.
展示了摩擦强度对聚酰亚胺薄膜表面形态的影响,原子力显微图像显示,机械摩擦会使聚酰亚胺薄膜表面上形成微沟槽,这些沟槽的表面具有丰富的表面精细构造。原子显微图像还揭示了机械摩擦可以改变被磨擦聚酰亚胺膜的表面形态。 相似文献
103.
104.
Roskowski A. M. Preble E. A. Einfeldt S. Miraglia P. M. Davis R. F. 《Journal of Electronic Materials》2002,31(5):421-428
High-resolution x-ray diffraction (XRD) and atomic force microscopy (AFM) of pendeo-epitaxial (PE) GaN films confirmed transmission
electron microscopy (TEM) results regarding the reduction in dislocations in the wings. Wing tilt ≤0.15° was due to tensile
stresses in the stripes induced by thermal expansion mismatch between the GaN and the SiC substrate. A strong D°X peak at
≈3.466 eV (full-width half-maximum (FWHM) ≤300 μeV) was measured in the wing material. Films grown at 1020°C exhibited similar
vertical [0001] and lateral [11
0] growth rates. Increasing the temperature increased the latter due to the higher thermal stability of the GaN(11
0). The (11
0) surface was atomically smooth under all growth conditions with a root mean square (RMS)=0.17 nm. 相似文献
105.
106.
The nanomechanical characteristics of polycarbonate (PC) polymer were investigated by atomic force microscope (AFM) and nanoindentation. Scratching, wear properties, hardness and Young's modulus were obtained. The relationships between scribing feed and speed, surface depth and roughness and applied load were also investigated. The results indicated that as the applied load was increased, the furrow depth and the surface roughness increased. When the scribing feed was increased, the depth and roughness decreased. Increasing the furrow speed also decreased the surface roughness. The applied load is more significant than the scribing speed on the material removal rate. In addition, the Young's modulus and hardness of the polycarbonate material were 1.8 and 0.2 GPa, respectively. 相似文献
107.
Wang Xiaofeng Huang Fengyi Sun Guosheng Wang Lei Zhao Wanshun Zeng Yiping Li Haiou and Duan Xiaofeng 《半导体学报》2005,26(9):1681-1687
One group of SiC films are grown on silicon-on-insulator (SOI) substrates with a series of silicon-over-layer thickness.Raman scattering spectroscopy measurement clearly indicates that a systematic trend of residual stress reduction as the silicon over-layer thickness decreases for the SOI substrates.Strain relaxation in the SiC epilayer is explained by force balance approach and near coincidence lattice model. 相似文献
108.
109.
(Pb,La)TiO3薄膜电畴生长的压电响应力显微镜研究 总被引:1,自引:0,他引:1
压电响应力显微镜为铁电薄膜电畴的研究提供了一种有效的检测方法.本实验用压电响应力显微镜(PFM)对不同退火温度的(Pb,La)TiO3铁电薄膜进行表征,得到了各个样品相应的形貌像、面外电畴像和面内电畴像.结果表明,随退火温度升高,(Pb,La)TiO3铁电薄膜的表面形貌表现出从粘连到结晶较好,到出现抱团的变化过程;此外,随退火温度升高,铁电薄膜的自发极化强度先增强后减弱.通过对这一系列铁电薄膜电畴进一步研究得到:在625℃退火1 h后,(Pb,La)TiO3铁电薄膜以非铁电相为主;而在650℃和675℃退火1 h后,(Pb,La)TiO3铁电薄膜以铁电相为主. 相似文献
110.