磁流变抛光D型去除函数创成机制数值分析

磁流变抛光技术是超精密光学元件制造的最终工艺环节。为了进一步研究在磁流变抛光过程中,当工件的嵌入深度不同时,其去除函数对抛光区域内磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响,作者通过开展数值计算对相关参数进行试验、分析,探明了在磁流变抛光过程中,其加工工件的嵌入深度不同对磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响机制,得出了当加工工件的嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光液的压力会随其变深而增大、磁流变抛光液的运动速度相反会随其变深而逐渐减小、磁流变抛光液的密度会随其变深而逐渐增大的结论。     

可控电解珩磨准稳态加工去除规律的神经网络建模

针对可控电解珩磨准稳态加工中参数的多样性及因果关系的不确定性 ,提出一种应用人工神经网络建立准稳态加工去除规律模型的方法 ,通过理论分析给出应用神经网络建模方法的可行性。经实验验证 ,所建模型具有较高的计算精度     

用膜技术降低溶解氧浓度以减少给水系统的腐蚀——-Hichard M．Mode．等

讨论了在混合循环补水系统中用气体传输膜技术去除溶解氧的优点。在一采用常规的蒸汽接触除氧的给水系统中，在被氧饱和的补水进入蒸汽除氧器之前需先将其暴露于低压给水加热器的高温环境中。作者介绍了一种不需要化学品的以膜为基础的溶解氧去除系统，该系统在除氧器之前的环境温度下即可去除溶解氧，从而降低了给水系统的腐蚀，延长了其使用寿命。     

前沿科技

印度开发出一种减少活性染料排放液污染的新技术——纳米膜过滤技术。该技术利用反渗透原理将废水中分子量为200～300的杂质去除，可将水解活性染料从盐溶液中分离出，盐溶液可以循环利用。     

粘胶生产过程中减少杂质方法的探讨

通过对粘胶生产过程中杂质的数据分析，讨论了在制胶过程中采用脱盐水以及排放压液等措施，来避免和减少Cl^-、Na2CO3、Fe2O3及醛基、羧基等杂质，以制得纯净的粘胶。     

一体式循环流化床污水营养物去除装置

本实用新型属于污水处理技术领域，尤其是指利用循环流化床进行污水脱氮除磷的装置。包括位于下部的缺氧流化床、中部的厌氧流化床和上部的固液分离器．厌氧床出口接好氧流化床，好氧流化床另一侧接斜板沉淀池，该斜板沉淀池下部分别为载体回流沉淀区和富磷污泥沉淀区，载体回流沉淀区通过载体回流管与好氧流化床连接，以上各有关部件间有管路连接。     

基于自适应分块的动态场景HDR图像合成算法

通过提出基于梯度上升优化处理的自适应分块算法与基于图像序列梯度域运动检测与去除相结合的方法,自适应调整分块大小及动态区域块的融合权值,最终达到混淆去除的目的.同时,利用Gaussian中心函数窗口滤波,去除在分块融合过程中引入的块边缘不连续性痕迹.实验结果表明,该方法能快速有效地增强多曝光图像融合生成HDRI并去除混淆问题.     

具有超级吸附能力和高氧化能力的水处理剂用于安全的水处理及其制备方法

本文提供了一种水处理剂的制备方法，其用于去除水中的味道和气味，通过该方法制备的水处理剂，吸附和氧化去除Geosmin和MIB产生的味道和气味，生产高质量的饮用水，通过改善氯化能力生产安全的饮用水。该制备方法包括通过使3wt．％-20wt．％的改性淀粉与10wt．％-30wt．％碳酸钠混合，在温度为80—100℃范围内加热处理混和物，得到溶解溶液的步骤；使该溶液与50wt．％-85wt．％至少一种或多种从由活性粘土、     

活性炭对Cr（Ⅳ）吸附机理的探讨

根据焦作电厂粉煤灰堆放场引起地下水中Cr(Ⅳ)污染的实际情况，在实验室里模拟配制水样，使其接近当地地下水中Cr(Ⅳ)浓度。进行活性炭对Cr(Ⅳ)的吸附试验。对所得的试验数据进行分析，探讨活性炭的吸附机理。这些工作为处理和修复被污染的地下水提供理论依据，此外，还对去除地下水中Cr(Ⅳ)提出合理建议。