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光刻是制造大规模集成电路的主要方法。由于快速计算机和多功能处理器不断发展,并提出很多新的要求,促使半导体集成线路制造商力求增加单片上的元件密度。元件密度受最小光刻尺寸限制。虽然光刻工艺水平已能刻出准波长特征尺寸的集成线路的线宽,但是,连续发展几代的单片集成线路要求光源波长从436nm到365nm。用248nm波长光源(KrF准分子激光器).光刻的特征尺寸为0.25μm。期望能生产0.18μm特征尺寸的集成线路。为了生 相似文献
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本文介绍了贴片机的近况与发展，较详细介绍了西铁城Ａ４３０贴片机及其维护，并就实际生产中遇到的问题谈谈自己的解决办法。 相似文献
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介绍一种新型的科研绘图软件－－SmartDraw。该软件功能强大，操作简单，简便易行，是科研工作者良好的绘图工具。 相似文献
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1,4-丁二醇生产新工艺述评 总被引：1，自引：0，他引：1
１，４－丁二醇生产新工艺述评胡畔（北京石油化工工程公司，北京１００１０１）ＨｕＰａｎ（ＢｅｉｊｉｎｇＰｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇＣｏｍｐａｎｙ，Ｂｅｉｊｉｎｇ１００１０１）关键词１，４－丁二醇生产工艺１，４－丁二醇又名１，４－二羟... 相似文献