基于功能高分子膜的荧光传感器研究

将荧光试剂荧光素共价连接于聚氯乙烯支链上，首次合成了一种具有荧光敏感功能的高分子材料，用该敏感材料为敏感膜的铜离子荧光熄灭型传感器使用寿命显著延长，对铜离子的检测范围与检测下限分别是２．５×１０＾－５￣１．０×１０＾－３ｍｏｌ／Ｌ和１．０×１０＾－５ｍｏｌ／Ｌ。     

压力水膜结晶器的研究与开发

本研究采用先进的冷却原理开发了压力水膜结晶器。该结晶对铸坯的强化冷却效果显著，有利于提高铸机的拉速，同时对减少漏钢作用也颇为有效。     

PVDF中空纤维滤膜的形态结构

用Ｌ－Ｓ相转换法制备了聚偏氟乙烯（ＰＶＤＦ）中空纤维不对称滤膜。铸膜液由聚合物、溶剂和添加剂组成。用电子显微镜（ＳＥＭ）考察了聚合物浓度、添加剂用量及种类对膜形态结构的影响。实验结果表明，聚合物浓度对膜形态结构有显著影响，当铸膜液中聚合物浓度较低时，无论用什么种类添加剂，都能形成大、且多的孔，但孔的形状随添加剂不同而异。当恒定聚合物浓度时，添加剂的用量对膜形态结构有很大的影响，但孔的大小及多少与添加剂含量的多少不成正比。     

无机膜的应用与展望

本文综述了无机膜的发展、制备方法和应用。     

氮化钛薄膜的高分辨AES谱和XPS谱研究

着重讨论了TiNx薄膜俄歇电子谱的定量分析方法和X射线光电子谱中线形的变化。利用已知组元强度定量分析技术和Ti的LMV俄歇电子峰，探讨TiNx薄膜中N含量的定量方法。由该方法给出的定量结果与X射线光电子谱定量结果相一致。同时，利用X射线光电子谱测定了TiN和Ti2N2p轨道的结合能。并针对Ti2p峰形随N含量的变化，给出新的解释。     

薄Si膜对基底表面粗糙度的影响

利用ＺＹＧＯ光学干涉测量仪，散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度．详细分析了薄Ｓｉ膜对基底均方根粗糙度的影响，由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度，结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象．提出了一定厚度范围的薄Ｓｉ膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想．     

薄膜蒸镀光学控制中的一种现象的数学分析

证明了在连续蒸镀两层高，低折射率介质膜过程中，当第一层厚度不足λ／４厚时，刚开始蒸镀第二层膜时其反射率变化趋势与第一层膜相同，并由此展开，说明两层厚度不足λ／４的薄膜在很大程度上等价于一层λ／４的薄膜。     

非晶型磷化成膜技术的研究

就非晶型磷化成膜技术的工艺方法、膜层的理化性能、质量控制因素等作了必要的论述，并对成膜机理进行了有益的探讨。本技术已经获得了工业上的实际应用，受到了越来越多的用户的欢迎。     

离子膜烧碱计算机控制系统

介绍了化工部“八五”攻关项目——离子膜烧碱计算机控制系统，就系统的构成、功能以及离子膜烧碱工艺中一些较为复杂的控制方案作了详细说明