扫描电镜的最新发展——低电压扫描电镜（LVSEM）和扫描低能电镜（SLEEM）

本文从仪器和电子光学的观点评述了在扫描电镜上的装备场发射枪以后,向低电压扫描电镜和扫描低能电镜发展中的一些重要问题。讨论了低能和极低能时二次电子和背散射电子的特性,低电压扫描电镜作扫描低能电镜能量段的划分,实现低电压扫描电镜和扫抵低能电镜的困难,以及利用阻场透镜的解决办法。讨论了低能情形下信号的探测,杂散电磁场的影响的估计和仪器的分辨率。     

1315nm高反射率硅镜的膜系分析

随着高功率激光器,尤其是化学氧碘激光器(COIL)的不断发展,对激光光学元件的性能要求越来越高.为了满足实际需要,用于COIL的高反射硅镜的反射率应达到99.95%以上,以减少镜面热畸变,提高其抗激光损伤能力.早在十多年前,美国的有关专家就把激光薄膜作为急待解决的关键技术.近年来,国外的强激光薄膜发展很快,1315 nm波长高反射镜的反射率已达99.9%以上,有的甚至达到99.99%. TiO2/SiO2膜系是目前制备高反射镜采用最多的膜系.该膜系比较成熟,制备工艺较为稳定.但该膜系的本征吸收较大,影响到激光损伤阈值的提高.而且材料组合相对较不稳定,峰值波长易受湿度的影响.若采用Si和SiO2做镀膜材料,用于1.0～3.0 μm波长范围,薄膜吸收极小,而且耐久稳定.由于Si在红外区的折射率较高,因此仅需要较少的膜层数、较薄的膜层厚度即可满足设计使用需要,大大提高了镀膜效率.本文利用TFCALC薄膜设计软件对TiO2/SiO2 和Si/SiO2 膜系中心波长为1.315 μm的硅镜反射特性进行了仿真模拟.给出了Si薄膜折射率与基板温度的关系曲线,以及正入射与45°斜入射情况下Si/SiO2 膜系硅镜的反射特性;膜厚控制误差为±10%时,对反射率的影响等.(OH11)     

腔衰荡法四腔镜反射率及腔内吸收测量

利用腔衰荡四腔镜轮换的方法 ,在常态下测得了四腔镜的反射率 ,同时得到了腔内对测量光的吸收损耗     

反射式扭曲向列相液晶显示器工作模式的演化

用动态参数空间方法研究了反射式扭曲向列相液晶显示的常白工作方式,观察到,当偏振片角度β变化时,显示从纯电控双折射（ECB）模式演化到反射式扭曲向列相模式（扭曲角为52°）。并且第一和第二ECB模式虽沿着不同路径演化,但最终合并成同一个优化反射式扭曲向列相模式。从反射式扭曲向列液晶显示模式的演化角度出发,研究了电光响应、反射率对波长的依赖关系等。     

液晶光阈中的高反射介质镜的研究

讨论了液晶光阀中的高反射介质镜的介质膜最大的层数,由3个不同中心波长的1／4波堆叠加形成的介质镜结构和各膜层的厚度,导出了这种叠加结构介质镜的反射率公式,。计算和测量了反射率随入射光波长,入射角,介质膜导 及其折射率的变化。     

掺镜光纤放大器的优化设计

掺镜光纤放大器（YDFA）以其简单的能级结构,不存在对信号或泵浦的激发态吸收,不存在浓度淬灭效应以及有较宽的吸收光谱和发射光谱而引起了人们的重视,本文分析了隔离器,滤波器和光纤光栅对YDFA的优化原理,并讲座了隔离器、滤波器在激活光纤内的最佳位置,分析方法采用了简单的分段模型。     

工艺参数对AgInSbTe薄膜性能的影响

采用射频磁控溅射工艺,在 Ｋｇ玻璃基片上用 Ａｇ－Ｉｎ－Ｓｂ－Ｔｅ合金靶制备了 Ａｇ_δＩｎ＿（１４）Ｓｂ＿（５５）Ｔｅ＿（２３） 相变薄膜,将沉积态薄膜在３００℃进行了热处理．测量了薄膜的光学性质和静态存储性能,研究了 溅射气压和功率对薄膜光学性质和静态存储性能的影响．结果表明,适当的溅射气压和溅射功率可使 Ａｇ_δＩｎ＿（１４）Ｓｂ＿（５５）Ｔｅ＿（２３）相变薄膜具有较大的反射率对比度,从而提高其存储性能．     

ＯＫ镜真的ＯＫ吗？

ＯＫ镜又称为角膜塑型镜片。ＯＫ镜治疗近视技术是近几年进入中国的。其原理是用一种特别设计的硬性透气隐形镜片 ,通过夜间佩戴 ,来增大配戴者眼球的曲率半径 ,以减少角膜屈折力 ,从而降低近视的程度。ＯＫ镜一般适合矫治顶焦度在３ ００Ｄ以内、以青少年为主的近视患者。ＯＫ镜一旦停戴 ,会造成视物感觉更模糊 ,治疗者往往因此而离不开ＯＫ镜。然而 ,作为治疗和维持 ,近视患者在不同疗程应当配戴不同规格的ＯＫ镜片。如果长期使用一副ＯＫ镜片 ,会产生污染和不适。而更换一副ＯＫ镜需要再花３０００元到４５００元不等 ,很多治疗者只片面…     

化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量

报道了化学气相沉积金刚石薄膜生长的原位反射率测量,提出了监控金刚石薄膜生长的激光反射多光束干涉的数学模型。通过原位反射率的测量,精确监控了金刚石薄膜的生长厚度,成功地制备了红外增透增,这种方法的测量装置简单、紧凑而且可靠。     

含荧光染料织物的真实反射率及荧光量子效率

荧光染料有异于常规染料的光学特性。文章介绍了一种简便的方法,可得到含荧光染料织物的真实反映率。在此基础上,提出了荧光染料的荧光量子效率的简便求解方法。