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961.
I. Neelakanta Reddy V. Rajagopal Reddy N. Sridhara S. Basavaraja A.K. Sharrna Arjun Dey 《材料科学技术学报》2013,29(10):929-936
Alumina thin films were deposited on fused quartz and SS304 substrate by pulsed rf magnetron sputtering with both direct and reactive methods. The films were characterised by energy dispersive X-ray spectroscopy, X-ray diffraction, scanning electron microscopy, field emission scanning electron microscopy and atomic force microscopy to reveal the microstructure, surface morphology and topography of thin films. Transmittance and reflectance of alumina thin film were evaluated after deposition on the quartz substrate. Transmittance of the quartz remains almost un-altered when alumina was deposited by the reactive sputtering. A marginal decrease of ~4% in the transmittance of quartz was, however, observed after deposition of alumina by direct sputtering. Infrared emittance of the substrate also remains almost constant after deposition of thin alumina film. Further, as-deposited alumina on SS304 obtained by both direct and reactive sputtering process was amorphous in nature. However, after annealing crystalline peaks were observed. 相似文献
962.
以O2和CO2为气化剂生产高纯CO气 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍以O2和CO2作气化剂,以焦炭为原料生产高纯CO气的气化原理、工艺流程及工业应用。 相似文献
963.
964.
965.
高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅 总被引:1,自引:0,他引:1
一种以高纯石英砂为原料生产太阳能级多晶硅的方法,选择SiO2含量在99%以上的硅石料,进行水淬、粉碎、筛分、酸洗、磁选、高压电离,使硅石颗粒纯度达到99.99%以上,得到高纯石英砂;把碳质还原剂和矿热炉中的石墨电极在氯化炉中高温氯化,使碳质还原剂的纯度达到99.9999%以上;在矿热炉中用碳质还原剂还原高纯石英砂生产硅,生产过程中,从矿热炉中定期放出硅液;把得到的硅液注入到保温炉中,在非氧化气氛下对产品直接进行高频等离子吹炼除杂,同时向熔硅中添加氧化性气体;再把硅液注入到定向凝固炉中进行定向凝固,进一步提纯硅,即可得到太阳能级多晶硅。优点是:投资少,建设周期短、生产成本低、工艺简单、无污染、适合产业化。 相似文献
966.
本文提供了蒸汽净化的方法、蒸汽净化的系统、测量和戚控制蒸汽流动速度的方法,并介绍了该方法在净化后蒸气中的使用情况。还提供了不透气膜,如全氟化离聚物(如全氟乙烯磺酸/四氟乙烯膜)。还介绍了这种膜高温运行时净化蒸汽的方法、低温运行时的方法和负压净化蒸汽的方法。在一个首选的实施方案中,该净化蒸汽系统包括加热器和净化装置。系统水运行过程中,如去离子水被投加到容器中提供蒸汽给料源。 相似文献
967.
968.
969.
970.