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由于微量有害元素锌的循环富集给八钢高炉生产带来许多危害,通过调查分析找到了高炉内锌的主要来源,提出了控制有害元素锌的对策及建议。 相似文献
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湿法炼锌浸出矿浆过滤工艺改造实践 总被引:1,自引:0,他引:1
蒋学先 《金属材料与冶金工程》2010,38(1):35-37
在湿法炼锌生产过程中,当原料锌精矿品位较高时,采用传统的浓密槽进行浸出矿浆的固液分离效果较好。但近年来随着锌精矿品位的不断降低,浓密槽的分离效果越来越差,已不能满足生产需要。为此,广西某厂通过工艺改造,采用厢式压滤机代替浓密槽进行浸出矿浆的过滤,取得了较好的效果。 相似文献
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比较了常压浸出与加压浸出两种工艺的机理、流程、技术经济指标、投资以及存在的问题。试验和生产数据表明,加压浸出在技术上和工艺上都更具有吸引力。 相似文献
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简单介绍了热镀锌产品表面锌花的各种形态,锌液中的合金元素对锌花的形成机理的研究。 相似文献
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Fumiaki Mitsugi Yoshihiro Umeda Norihiro Sakai Tomoaki Ikegami 《Thin solid films》2010,518(22):6334-1307
Recently, transparent conducting oxide thin films have attracted attention for the application to transparent conducting electrodes. In this work, we evaluated the uniformity of electrical, optical and structural properties for gallium doped zinc oxide thin films prepared on the 10 × 10 cm2 silica glass substrate by pulsed laser deposition. The resistivity, carrier concentration, mobility, bonding state and atomic composition of the film were uniform along in-plane and depth direction over the 10 × 10 cm2 area of the substrate. The film showed the average transmittance of 81-87%, resistivity of 1.4 × 10− 3 Ω cm, carrier concentration of 9.7 × 1020/cm3 and mobility of 5 cm2/Vs in spite of the amorphous X-ray diffraction pattern. The gradual thickness distribution was found, however, the potential for large-area and low temperature deposition of transparent conducting oxide thin film using pulsed laser deposition method was confirmed. 相似文献
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Jung-Min Kim 《Thin solid films》2010,518(20):5860-1267
100 nm Al-doped ZnO (AZO) thin films were deposited on polyethylene naphthalate (PEN) substrates with radio frequency magnetron sputtering using 2 wt.% Al-doped ZnO target at various deposition conditions including sputtering power, target to substrate distance, working pressure and substrate temperature. When the sputtering power, target to substrate distance and working pressure were decreased, the resistivity was decreased due to the improvement of crystallinity with larger grain size. As the substrate temperature was increased from 25 to 120 °C, AZO films showed lower electrical resistivity and better optical transmittance due to the significant improvement of the crystallinity. 2 wt.% Al-doped ZnO films deposited on glass and PEN substrates at sputtering power of 25 W, target to substrate distance of 6.8 cm, working pressure of 0.4 Pa and substrate temperature of 120 °C showed the lowest resistivity (5.12 × 10− 3 Ω cm on PEN substrate, 3.85 × 10− 3 Ω cm on glass substrate) and high average transmittance (> 90% in both substrates). AZO films deposited on PEN substrate showed similar electrical and optical properties like AZO films deposited on glass substrates. 相似文献
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