1064 nm激光平板偏振膜的研制

根据军用光学仪器的使用要求,在平板K9基底上镀制偏振膜,要求在56.4°角入射条件下,激光波长1064 nm处满足T_P>99%,T_S<1%,且膜层抗激光损伤阈值应≥600 MW/cm~2.采用电子束真空镀膜的方法并加以离子辅助沉积系统,通过选择HfO_2和SiO_2作为高低折射率材料,利用Macleod软件进行膜系设计与分析,采用LightRatioPeak光值比例法进行监控,优化工艺参数,减少监控误差,在平板K9基底上成功镀制符合使用要求的偏振膜.所镀膜层不仅满足光谱要求,且顺利通过膜层环境测试,完全满足军用光学仪器的使用要求.     

多腔薄膜梳状滤波器的透射峰随入射角的变化规律

利用特征矩阵法研究了多腔薄膜梳状滤波器在C波段的透射峰在入射角微小变化中的变化规律,结果表明：在入射角缓慢增大的过程中,各透射峰的位置逐渐向短波方向移动,各透射峰的形状周期性地变化;随着入射角的增大,透射峰个数减少,透射峰变宽,透射峰的位置和形状变化加快,以至于极小的入射角变化就会使透射峰的位置和形状产生很大的变化。     

可见光+1.54μm激光/长波红外分色片的设计和制备

可见+1.54μm激光/长波红外分色片分离可见光、激光和长波红外光,在多通道成像光学系统中起着重要的作用.分析了分色片基板和薄膜材料的选择,优化设计并用电子束蒸发法制备了该分色片,其反射率和透射率都达到了94%以上,已成功应用于实际光学系统.     

离子辅助沉积TiO2光学薄膜的特性

阐述了用离子辅助沉积(IAD)工艺制备氧化钛(TiO2)光学薄膜的光学、应力及微观特性,并讨论了其与离子辅助沉积成膜工艺参数之间的相互关系。     

离子束刻蚀光学薄膜的速率定标技术

离子束刻蚀技术现在越来越多被应用在可见光乃至红外薄膜中,在这一技术中最为关键的环节就是如何精确地测量离子源对薄膜的刻蚀速率,此速率因不同材料不同工艺条件而变化。现在利用光谱测量与数据拟合的方法,能够快速简便地测定出被刻蚀的材料的物理厚度,从而标定离子束刻蚀的速率。     

光学薄膜宽带实时监测方法的探讨

列举了多种实例，对光学薄膜宽带监测方法作了认真探讨。在非λ/4多层薄膜的制备中，有效的监测方法是获得制各成功的关键。根据宽带光学薄膜的特殊要求，选择合适的监测方法，满足膜层监测的实际需求，是评价实施方法的一个重要依据。     

常用光学薄膜的应用分析

经对薄膜理论的分析,说明了常见光学仪器上膜层色彩纷呈的原因和实际作用,纠正了某些人群对膜系功能的认知错误.     

光纤传感用的TiO2：V2O5湿敏光学薄膜

用溶胶—凝胶法制备ＴｉＯ２∶Ｖ２Ｏ５光学薄膜，研究了它的湿敏光学特性，并用表面吸附理论、电子理论较好地解析了湿敏—光学特性机理。