全文获取类型
收费全文 | 64663篇 |
免费 | 4056篇 |
国内免费 | 3183篇 |
专业分类
电工技术 | 1428篇 |
综合类 | 4030篇 |
化学工业 | 21794篇 |
金属工艺 | 6631篇 |
机械仪表 | 1964篇 |
建筑科学 | 2496篇 |
矿业工程 | 3215篇 |
能源动力 | 1043篇 |
轻工业 | 6834篇 |
水利工程 | 836篇 |
石油天然气 | 4119篇 |
武器工业 | 413篇 |
无线电 | 3212篇 |
一般工业技术 | 6136篇 |
冶金工业 | 6220篇 |
原子能技术 | 913篇 |
自动化技术 | 618篇 |
出版年
2024年 | 512篇 |
2023年 | 1966篇 |
2022年 | 2640篇 |
2021年 | 2730篇 |
2020年 | 2162篇 |
2019年 | 2096篇 |
2018年 | 1090篇 |
2017年 | 1494篇 |
2016年 | 1696篇 |
2015年 | 2026篇 |
2014年 | 3691篇 |
2013年 | 2862篇 |
2012年 | 3307篇 |
2011年 | 3408篇 |
2010年 | 3103篇 |
2009年 | 3252篇 |
2008年 | 3751篇 |
2007年 | 3001篇 |
2006年 | 2864篇 |
2005年 | 2889篇 |
2004年 | 2670篇 |
2003年 | 2371篇 |
2002年 | 2052篇 |
2001年 | 1912篇 |
2000年 | 1631篇 |
1999年 | 1342篇 |
1998年 | 1285篇 |
1997年 | 1127篇 |
1996年 | 1120篇 |
1995年 | 960篇 |
1994年 | 875篇 |
1993年 | 740篇 |
1992年 | 744篇 |
1991年 | 752篇 |
1990年 | 620篇 |
1989年 | 626篇 |
1988年 | 118篇 |
1987年 | 88篇 |
1986年 | 69篇 |
1985年 | 58篇 |
1984年 | 63篇 |
1983年 | 58篇 |
1982年 | 37篇 |
1981年 | 18篇 |
1980年 | 8篇 |
1965年 | 1篇 |
1959年 | 4篇 |
1957年 | 2篇 |
1951年 | 9篇 |
1949年 | 1篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 0 毫秒
991.
992.
993.
利用LS-DYNA有限元软件模拟弹体撞击作用下平纹织物的动态过程,分析织物断裂前的变形特性以及能量吸收特性,讨论边界约束条件和弹体形状对织物动态响应的影响。结果表明:纱线应变能和纱线动能是弹体动能转变的最主要形式,在给定计算的时间内,对于四边无约束、对边固定约束和四边固定约束3种边界条件,不论弹头形状采用平头、半球头和卵形头中的哪一种,两者之和占弹体动能损失量的比例不小于74.6%。模拟结果还表明,边界约束条件和弹体形状对织物的变形、应力分布以及能量吸收特性均有明显影响。边界条件不同,纱线动能和纱线应变能占弹体动能损失量的比例会发生较大变化,织物的能量吸收特性也不同。弹体头部形状不同,受撞击区影响的纱线数目也不同,弹头越钝,织物中抽拔出的纱线数目越多。从织物结构的抗弹性能角度看,织物结构抗钝头弹体的穿透能力要优于尖头弹体。 相似文献
994.
995.
氧化钒薄膜电阻PSPICE模型及特性分析 总被引:2,自引:0,他引:2
在分析了热敏电阻红外探测器工作原理的基础上,利用PSPICE的多项式受控源和现有器件,建立了氧化钒热敏电阻的等效子电路模型,进而推导出氧化钒热敏薄膜红外探测器的PSPICE等效模型.对子电路等效模型进行了PSPICE模拟,模拟结果与理论推导公式相一致.并利用模拟结果分析了薄膜电阻率与温度系数之间的关系.该模型也可用于其他类型的热敏薄膜探测器,具有一定的通用性. 相似文献
996.
利用特征矩阵的方法推导出光在一维光子晶体中光场的分布公式, 利用光场的分布公式和材料的复折射率研究了材料吸收对一维光子晶体全反射隧穿光场分布的影响。研究表明: 材料吸收对一维光子晶体全反射隧穿的光场分布会产生明显的影响, 材料吸收会使全反射隧穿光场的峰值发生明显变化。 相似文献
997.
采用紫外光刻工艺(ultraviolet lithography technique,UVL),在互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,CMOS)兼容的硅基平台上制作了基于悬空微桥结构在Ge/SiGe多量子阱材料中引入双轴张应变的低偏振相关电吸收调制器。利用拉曼光谱测试了器件引入双轴张应变的大小,并对器件在横电(transverse electric,TE)偏振和横磁(transverse magnetic,TM)偏振下的光电流响应、调制消光比和高频响应等性能进行了测试。器件的低偏振相关消光比在0 V/4 V工作电压下可达5.8 dB,3 dB调制带宽在4 V反向偏置电压时为8.3 GHz。与电子束光刻工艺(electron beam lithography technique,EBL)相比,采用UVL制作的器件在调制消光比、高频响应带宽等性能上略差一点,但具有曝光时间短、成本低和可大批量生产等优势,应用前景广阔。 相似文献
998.
《变频器世界》2005,(7):145-148
第9届国际现代工厂/过程自动化技术与装备展览会(FA/PA)于2005年6月14—17日在北京中国国际展览中心隆重举行。国内外数百家企业都纷纷将本企业最新的高精尖的产品赴会参展,同时还举行工业自动化技术论坛,因此吸引了众多的同行业者、专家和专业观众。作为中国制造业自动化领域的品牌专业展会,展览会以“引进、吸收、合作、创新。”为主题,几乎聚齐了全世界工业自动化领域的一流企业和知名品牌。如德国的西门子自动化与驱动、图尔克、伦茨、菲尼克斯电气、穆勒电气、皮尔磁、KW—Software、施克、法国的施耐德电气、美国的罗克韦尔、GE Fanuc、艾默生网络、邦纳、日本的富士电机、三菱电机、安川电机、欧姆龙、三垦、光洋电子、和泉电器、韩国的LG产电、AUTONICS、多伺电子及现场总线PROFIBUS国际组织、ASI国际组织、PLCopen国际组织,还有许多国内的知名品牌如杭州和利时自动化、烟台惠丰电子、上海泓格科技、无锡台安科技、东元电机、深圳人机电子、珊星数控、康沃电气、英威腾电气、北京机械工业自动化所、智能电气、新利同创、鼎实创新等都在本展会上展示了他们一流的企业形象和最新产品及技术成果。 相似文献
999.
1000.