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采用二极溅射方法在玻璃基体上制备了Fe-O、Fe-N-O薄膜.在空气气氛下用不同温度对其进行了加热处理,并用紫外可见分光光度仪对热处理前后样品的透射率进行了研究.结果表明,热处理对薄膜的光学性能影响较大;N元素的存在对薄膜的光学性能有一定的影响;随着加热温度的增加透射率增加.XPS实验结果证明薄膜性能改变的原因是热处理后薄膜的成分与结构发生了明显的变化. 相似文献
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为使Ⅱ-Ⅵ族化合物ZnS薄膜具有可弯曲性,选用柔性的聚酰亚胺作为衬底材料,用射频磁控溅射法沉积ZnS薄膜,对所制备薄膜的结晶结构、组分和光学特性进行分析.实验结果表明,所制备薄膜为结晶态的闪锌矿ZnS结构,择优取向为(111)晶面,晶粒尺寸为25.6 nm.薄膜组分接近化学计量比,并具有少量的S损失.薄膜在可见光区和近红外光区的平均透射率分别为82.0%和90.5%,透光特性良好.作为对比,在钠钙玻璃衬底上溅射的ZnS薄膜的结晶度高于聚酰亚胺衬底薄膜,但其透射率略低于柔性ZnS薄膜.实验结果表明了用磁控溅射法在柔性聚酰亚胺衬底上制备ZnS薄膜的可行性. 相似文献
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在太赫兹通信等系统中需要利用太赫兹波调制器对信号进行调制.基于GaAs 等传统半导体材料设计和制作的调制器在太赫兹波段的响应过低,因而很难应用于太赫兹系统.为了弥补传统调制技术在带宽和调制深度不够的缺点,设计了一种全新的基于硅基石墨烯的全光控太赫兹强度调制系统.该调制系统利用材料中光生载流子对太赫兹波的吸收特性,通过调节照射到材料上的可见光光强来改变光生载流子浓度,从而实现对太赫兹波强度调制.从理论和实验两方面对这种新型太赫兹强度调制系统的调制深度和调制带宽进行了研究.研究结果表明,在泵浦光功率密度为18 mW/mm2时,该调制系统能在实验使用的THz-TDS 测试系统(0.1~2.5 THz)的整个频谱范围内进行有效的调制,调制深度可达到12 %.且随着泵浦光能量的增大,调制深度增大. 相似文献
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通过对四个打印机彩色三原色墨水的光谱透射率测定及色度学分析,得到每一颜色的三刺激值,色度坐标,比较了这4组三原色拼色的色域大小,彩度值,色相的主波长及补色波长。提出了三原色补色波长之间关系的一个经验公式:λcompl.M≌10/9(λcompl.Y) 10,及λcompl.M≌9/10(λcompl.C)-20,发现这4组三原色的补色波长与此公式有较好的适应性。 相似文献
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为获得高性能紫外激光薄膜元件,急需研制紫外高反射吸收薄膜,实现吸收损耗的精确测量。本文采用离子束溅射技术,通过调控氧气流量实现了具有不同吸收的Ta_2O_5薄膜的制备。以Ta_2O_5薄膜作为高折射率材料,设计了355nm的紫外高反射吸收薄膜。采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了355nm的吸收薄膜,对于A=5%的紫外吸收光谱,在355nm的透射率、反射率和吸收率分别为0.1%,95.0%和4.9%;对于A=12%的紫外吸收光谱,在355nm的透射率、反射率和吸收率分别为0.1%,87.4%和12.5%。实验结果表明,采用离子束溅射沉积技术,可以实现不同吸收率的355nm高反射吸收薄膜的制备,对于基于光热偏转测量技术的紫外光学薄膜弱吸收测量仪的定标具有重要的意义。 相似文献
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提出了一种改进的诱导透射滤光片的设计方法,使对于任意厚度的金属,均能得到最佳匹配的出射导纳.采用两个非四分之一波长层来代替传统设计方法中的单间隔层,其厚度可以通过导纳图解得.通过改变两个间隔层的材料,可以对滤光片的带宽进行调整.与传统方法相比,用改进的方法设计的滤光片达到了最大势透射率,具有更高的峰值透射率. 相似文献