Cu欠电位沉积法制备高效Pt/碳布析氢电极的研究

以阳极氧化处理的碳布（ACC） 为导电基体,利用Cu的欠电位沉积（UPD）和Cu与Pt金属前驱体之间的置换反应制备了Pt/碳布（Pt/ACC）电极材料,并对其微观结构和电催化分解水制氢性能进行了表征。结果表明,通过控制Cu的沉积电位可以有效地控制Pt的负载量和其在ACC表面的分散状态。随着沉积电位从0.32到0.15 V vs. RHE的变化,Pt/ACC电极材料中Pt的负载量呈线性增加,在0.5 MH2SO4溶液中的产氢反应结果表明,随着Pt负载量的增加,析氢起始电位逐渐降低,当沉积电位为0.15 V vs. RHE时,Pt在ACC表面的负载量仅为588 μg·cm-2,所得Pt/ACC电极材料起始电位为-0.05 V vs. RHE,且达到10 mA·cm-2电流密度所需的过电位仅为68 mV,tafel斜率为34.2 mV·dec-1,电极的催化产氢活性与块体Pt箔相近。     

电沉积紫膜薄膜中菌紫质的光电响应对N-端表面的金属阳离子浓度的依赖性

用不锈钢／电沉积紫膜薄膜／含水胶（电介质）／钢型菌紫质光电池研究了作用于Ｎ－端表面（紫膜外表面）的钾、镁、镧离子对菌紫质光电响应的影响．在所测条件下光电极性均与质子泵方向一致．光电压幅值是离子浓度依赖性的，对钾、镁、镧离子均存在极大值浓度，它们之间有数量级的差异；依赖性曲线趋势和极大值浓度均各自分别与溶液中菌紫质的质子泵效率对阳离子浓度的这种依赖性相一致．不过，光电响应对作用于Ｃ－端表面的这些离子不存在上述的浓度依赖性．上述的两种依赖性成相关性说明：电沉积紫膜薄膜中菌紫质的光电响应主要来自质子泵运而非非质子离子的贡献；存在一合适的离子浓度使菌紫质的光电响应有极大值．用质子泵结构域模型和扩散双电层理论对这种依赖性进行的讨论认为：金属阳离子的结合与屏蔽两种效应可以解释这种依赖性．     

CVD-ZnS中与锌有关的晶体缺陷及其对光学性能的影响

采用化学气相沉积（ＣＶＤ）法制备了红外晶体ＺｎＳ块材料。用氩气作为载体，反应气体为硫化氢和锌蒸气。ＸＰＳ，ＩＲ及能谱分析表明：当沉积温度低于锌蒸发温度时，生成的ＺｎＳ中与锌有关的晶体缺陷有Ｚｎ—Ｈ功能团及存在于花瓣状形态中心的锌微粒夹杂；当沉积温度高于锌蒸发温度时，锌微粒夹杂消失，且随沉积温度的升高Ｚｎ—Ｈ含量减少，Ｚｎ—Ｈ对红外光在６．２μｍ波长处的吸收峰减弱，使生成的ＺｎＳ具有高的红外透过率。     

活塞环材料的化学复合镀层与性能

本文研究了铸铁活塞环材料表面化学镀复合有SiC的Ni—P合金镀层。研究结果表明，Ni—P合金加热处理后，其Ni—P过饱和固溶体产生脱溶沉淀，析出第二相Ni3P，产生沉淀强化，SiC柱子复合后，产生分散强化，镀层硬度进一步提高，从而提高了耐磨性能。与镀铬、磷化处理相比，Ni-P合金层摩擦系数低，SiC镀层磨损体积低，抗磨能力强，耐磨性优良。     

稀土对电沉积Ni-W-B-SiC复合镀层组织结构及性能的影响

研究了加入稀土对电沉积Ni-W-B-SiC复合镀层的成份、结构、表面形貌、硬度等性能的影响规律.结果表明:加入稀土有利于SiC与Ni-W-B的共沉积,使镀层结晶细化,RE-Ni-W-B-SiC复合镀层的硬度高于Ni-W-B-SiC复合镀层.     

铜/钴纳米多层膜的电化学制备及表征

纳米金属多层膜由于其巨磁电阻性能而受到人们的重视。采用双脉冲控电位技术在单晶硅上沉积铜／钴纳米多层膜。测量了电沉积过程中的阴极极化曲线及电流－时间曲线，确定了沉积电位；利用扫描电子显微技术及X射线衍射技术观察了沉积层的断面形貌及晶体结构。结果表明，沉积层结构清晰、连续，各子层厚度均匀。     

喷射沉积大尺寸A356铝合金管坯的组织与性能

通过多层喷射沉积技术制备了大尺寸A356铝合金管坯,采用光学显微镜、扫描电镜、X射线衍射仪和拉伸试验机等分析了管坯的组织特征及后续轧制和热处理对管坯组织与力学性能的影响。结果表明:喷射沉积A356铝合金管坯的组织细小,但含有少量孔隙,第二相主要为近球形共晶硅和短棒状富铁相;喷射沉积管坯为大量雾化熔滴粘结而成,通过适当的轧制和热处理可以消除沉积坯中的孔隙和原始粉体界面强度弱等缺陷,提高其力学性能。     

钢板上沉积锌合金镀层的PVD试验设备研发

开发了一种采用物理气相沉积（physic alvapor deposition,简称PVD）技术沉积锌合金镀层的多功能试验设备,该设备集成了磁控溅射、蒸镀及退火功能;同时,描述了其功能、组成及工艺参数,可用于制备新颖的锌合金镀层,对于深化锌合金镀层的性能研究和促进钢板用腐蚀防护镀层新材料的研发具有重要意义。     

分段沉积/雕铣成型的工艺规划

分段沉积/雕铣成型技术是快速原形结合传统加工方法的一种新的工艺,兼有快速原形的高柔性和传统加工的高精度。本文就分段沉积/雕铣成型技术中零件的分段、薄壁件的加工、尖角的加工、曲面的加工等一些特殊工艺进行合理的工艺规划,提出解决措施。     

沉积压力对非平衡磁控溅射沉积MoS2-Ti复合薄膜的结构与性能影响研究

采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜,研究了沉积压力对薄膜的结构和性能的影响.利用XRF、轮廓仪和XRD分析测试薄膜的成分、厚度和晶相结构,用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力,用球-盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能.结果表明:降低沉积压力使溅射粒子的平均自由程变大,薄膜沉积过程中再溅射作用加强,对薄膜的结构和性能产生较大的影响.沉积压力升高,薄膜中S和Mo原子比和Ti质量分数随之增大,变化范围分别为1.50～1.77和5.8%～8.1%,薄膜沉积厚度先增大后减小,薄膜晶相结构从明显的(002)基面优势取向向准晶态转变;薄膜的硬度、与基底间的附着力都随沉积压力的升高而降低,薄膜硬度变化范围是5.7～3.5 GPa,薄膜与基底间附着力变化范围是100～75 mN;薄膜在真空环境中的减摩性能不受工作压力变化影响,摩擦因数平均值为0.02,波动范围为0.01～0.04,薄膜耐磨寿命随沉积压力升高依次为9 000,21 500,28 000,18 000 m ,工作压力低时再溅射作用破坏了MoS2分子层间的滑移能力从而使其耐磨寿命降低.