太阳能单晶硅切割与抛光设备实现国产化

据报道，国家“863”攻坚课题太阳能切割和12英寸单晶硅抛光技术与设备，日前在上海日进机床有限公司开发研制成功，并通过日本专家的检测，其各项指标均已超过现有的传统标准。     

镜面光整加工中磨料轨迹的分析研究

本文对镜面光整加工磨料轨迹进行了分析研究，提出了一个能表征加工效果的新参数Ｗ，推导出Ｗ的计算式，并通过实例验证了Ｗ与加工效果有直接关系。     

小件精密模具的高质量抛光

本文介绍采用一台精密抛光机床抛光小件模具的几个实例。由于本文的目的是从尽可能广泛的各个方面说明几个加工实例,所以对抛光用铣床本身以及有关抛光工具的说明很少。     

不同加工工艺的锑化镓晶片损伤研究

用透射电子显微镜、扫描电镜对锑化镓材料切、磨、抛等加工工艺引入的表面损伤进行观察和检测。结果表明：切割加工是锑化镓单晶晶片表面损伤层引入的主要工序；锑化镓单晶切割片表面极不平整，有金刚砂所引起的较粗桔皮皱纹；其表面损伤层深度≤30μm；双面研磨的锑化镓晶片表面仍有较粗桔皮皱纹，但比切割片的要细，而且桔皮皱纹的深浅随磨砂（Al2O3)粒径的减小而变细变浅；晶片的表面损伤层深度（≤5μm）也随着磨砂粒径的减小而减小。一般情况下，其损伤层的深度约为磨砂粒径的1/2。机械化学抛光加工的锑化镓晶片表面的SEM像观察不到桔皮皱纹；其损伤层深度约55nm。     

浅谈白米分级回转筛的使用

浅谈白米分级回转筛的使用湖南省郴州粮油机械厂（４２３０００）谷世斌１前言ＭＭＪＭ系列白米分级回转筛是在受多种国外振动机械和回转机械的启发后，由郴州粮机厂开发的专利产品，并于１９９１年１１月通过了专家鉴定，开始了批量生产。该设备由于具有特殊的运动轨迹，...     

光学玻璃化学稳定性与防蚀工艺的研究（续前）

介绍了光学玻璃的化学稳定性及光学零件抛光表面腐蚀原因，及防腐蚀的技术措施和效果。     

电解抛光和离子薄化法联合制备纳米晶双相稀土永磁合金TEM样品

纳米晶双相稀土永磁合金作为永磁体广泛应用于工业电动机和工业仪表中 ,但对该材料的电子显微结构分析报道较少 ,主要原因是该材料的透射电子显微镜薄膜样品的制备极为困难。原因是 :其一 ,该材料具有极高的脆性 ,以致在制作过程中用镊子夹取时样品极易碎裂 ,使制备过程失败 ;其二 ,由于所制备材料工艺限制 ,这种材料的宽度一般在 1 2～ 2 5ｍｍ ,厚度在 30～ 6 0 μｍ ,传统的制作方法需要经过机械打磨、3大小的薄膜剪切 ,才能将该材料用电解双喷方法或离子薄化技术制成透射电镜薄膜样品 ,但上述方法一般均需要原始试样的宽度不低于3ｍ…     

刃口边缘钼箔带的研究

研究成功制造具有刃口形边缘，成卷钼箔带的新工艺及设备，实现了高品质特性光源制造中这一着急材料的国产化。