纳米油墨之我见

随着科技的不断发展,"纳米"以及由其衍生出来的"纳米技术"、"纳米材料"这几个词频繁地出现在大家的日常生活中,纳米给大家带来的思想冲击以及科技进步已经很大程度影响了工业界,而由其引起的纳米技术在橡胶、塑料、玻璃钢、涂料、陶瓷、粘结剂、密封胶、抛光浆料以及医学、冶金、印刷等诸多行业中更是应用广泛.     

中国工业机器人的市场现状及发展趋势

2011年1二业机器人市场从销售额来看,工业机器人市场按照类型划分使用量最大的工业机器人为：焊接,喷涂和搬运机器人。这三种类型的工业机器人总销量占到整体销量的61％。未来,中国工业机器人发展方向是净室机器人（喷涂特殊油漆且表面通过打磨抛光的机器人）,能够广泛应用与电子行业,微电子行业,食品行业,医药等其他行业。     

抛光液温控装置结构设计及温度场分析

为精确控制超光滑表面抛光过程中抛光液的温度,根据温控基本原理设计温控装置结构.将用UG建立的温控装置模型导入GAMBIT中进行温度场分析.针对装置内部温度分布不均匀问题,对其结构进行优化：在装置内加入导热隔板将其分为工作区和调温区,制冷器被置于调温区内;将温控装置的外形结构加入过渡圆角.结果表明：优化后的温控装置形成内外环流,工作区温度波动范围为±0.01℃,温度分布均匀对称,满足高精度温控的恒温和匀温要求.     

磁流变抛光D型去除函数创成机制数值分析

磁流变抛光技术是超精密光学元件制造的最终工艺环节。为了进一步研究在磁流变抛光过程中,当工件的嵌入深度不同时,其去除函数对抛光区域内磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响,作者通过开展数值计算对相关参数进行试验、分析,探明了在磁流变抛光过程中,其加工工件的嵌入深度不同对磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响机制,得出了当加工工件的嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光液的压力会随其变深而增大、磁流变抛光液的运动速度相反会随其变深而逐渐减小、磁流变抛光液的密度会随其变深而逐渐增大的结论。     

金刚石化学机械抛光垫修整器的发展方向与前景（上）

半导体芯片的生产主要依靠化学机械抛光(CMP)工序使硅片表面平坦化，使复杂的集成电路能非常有效地工作。做为电路设计不可避免地趋向于采用高度集成和多层结构。故化学机械抛光技术必须紧跟其需要与发展。化学机械抛光垫性能的关键是采用金刚石化学机械抛光垫修整器工作时，抛光垫工作寿命期间，必须保持恒定的抛光效果。     

型腔表面超声波振动抛光技术

详细阐述了超声波振动抛光的机理,同时给出了模具型腔超声波振动抛光的操作要点、要求以及它的优缺点。     

超声波--电化学抛光技术在模具中的应用

本文详细阐述了超声波—电化学抛光技术的机理、装置、加工特点和应用范围，从而提出了模具型腔面抛光的新途径。     

研磨和抛光材料去除机理（二）

抛光盘通常由被衬以固体膜、毛毡、泡沫塑料或者纤维垫的刚性盘组成。结合工件-磨粒-抛光盘相互作用的材料去除机理将在负载特性部份讨论。一个极端情况是整个负载是由抛光盘、工件和磨粒之中的磨粒承担。另外一种极端情况是整个负载由抛光盘（垫）承担。通常，抛光加工是在这两种极限情况中间进行。     

纳米磨料硬度对超光滑表面抛光粗糙度的影响

通过均相沉淀法制备了纳米CeO2和Al2O3粉体,研究了在相同抛光条件下纳米CeO2、Al2O3和SiO2磨料对硅片的抛光效果,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度.结果表明:纳米CeO2磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度,在5 靘5 靘范围内表面粗糙度Ra值为0.240 nm,而且表面的微观起伏更趋向于平缓;考虑了纳米磨料在抛光条件下所发生的自身变形,其变形量相当于一部分抵消了纳米磨料嵌入基体材料的切削深度,而这个切削深度最终决定了抛光表面的粗糙度;分析指出这个变形量与纳米磨料的硬度成反比,硬度低的纳米磨料由于自身变形量大,导致切削深度小,抛光后表面的粗糙度值低.解释了在相同的抛光条件下不同硬度的纳米磨料具有不同的抛光表面粗糙度的原因.