明胶之保存与使用

<正> 1 明胶之保存 于明胶置于优良环境中可以数年不变质。这环境应与保存精白米、面粉、豆粉的环境相同。尤其要注意下述各点:a.防潮;b.防日光直射;c.防高温;d.防有机溶剂;e.防包装霉变;f.取出即用尽。否则,定有变质危险。通常明胶在未包装之前,总在与空气接触。倘明胶之水分>16％,就会首先附着空气中的浮游生物曲霉属、根霉素等之孢子,从而潜伏着发芽、繁殖之危险。凝胶状及液状明胶若长时间     

铝件碱性化学抛光工艺

采用碱性化学抛光工艺可达到与三酸抛光液相同的性能,抛光质量符合标准,成本降低40%以上.介绍了溶液成份和各种因素的影响.     

表面处理对氮化硅陶瓷力学性能的影响

采用X射线衍射应力分析的sin2ψ法计算了Si3N4陶瓷试样的残余应力，并分别测量了表面处理前后Si3N4试样的力学性能。结果表明，经平面磨削后的Si3N4试样表面残余应力为拉应力，而抛光处理可适当降低残余应力。两种方法都使试样抗弯强度降低。     

电解抛光技术的应用（之五）：锌及锌合金的电解抛光

锌像铝一样属两性金属,它既可与酸亦可与碱发生作用.进行电解抛光时,必须十分注意它的这种性质.现在,锌的电解抛光液分为酸性液和碱性液两类.一般说酸性液比碱性液的抛光效果要好.各类抛光液中,以氢氧化钾系、磷酸系及硫酰胺系液为主流.     

金钢石膜表面抛光与平整技术进展

综述了金刚石膜抛光与平整技术，例如研磨、热化学抛光、离子束抛光、化学机械抛光、等离子抛光、激光抛光等方法的优点与不足，重点分析厚度较小（约几微米）的金刚石薄膜抛光与平整的可行途径。     

防污涂料

0404156甲基丙烯酸醋、其聚合物及其安全长效防污涂料:JP2003一327 623[日本专利公开]/日本:Nippon Paint Co.,Ltd.(、乞mamori,Naoki等)一2003.11.19一14页一2002八34 674(2002.59);护CC08F20/36 本发明揭示的是HZC:CMeCO(OCHZCHZ)nNXC6H4一n一CsH一7一4(I:X=H、PH02C;n=0一16),I(X=H)氢卤化物季盐及其(共)聚合物。例如,用甲基丙烯酞氯化物酷化H(OCHZCHZ)3N(COZCHZPh)C6H4一nCS H17一4,得到86%的甲基丙烯酸酷,其均聚物涂料对蓝色贻贝有很强的防污性,在20℃人造水中摇动10d后洗提30.9%。04041 57具有长效稳定防污性…     

等离子体抛光对表面粗糙度的影响

为了得到超光滑表面且无表层损伤的光学元件,引入一种新型的超光滑表面加工技术——等离子体抛光.在新设计的等离子加工实验平台上进行了等离子体加工工艺实验,对氧气流量,放电功率大小,磁场大小几个参数对基片表面粗糙度的影响进行了实验研究,且优化了工艺参数.结果表明增加氧气流量,合理控制功率和磁场强度都会使等离子体抛光基片表面粗糙度减小.当氧气流量为50 sccm,功率为80 W,磁场强度为17 mT时,粗糙度达到最小值0.9 nm.     

抛光工艺及其设备

回转零件镜面抛光技术是利用电解——机械复合光整加工作用,加工效果高于单一的机械研磨和电解抛光．回转零件镜面抛光工艺及其设备成果包括特殊工艺装备、电解电源和电控系统、电解液循环系统、工具头和一套工艺方案．     

Sr/Zr掺杂以及抛光对BaTiO_3陶瓷结构和介电性能的影响

采用冷压陶瓷技术制备了(Ba0.75Sr0.25)TiO3、Ba(Ti0.8Zr0.2)O3、(Ba0.75Sr0.25)(Ti0.8Zr0.2)O3陶瓷.XRD结果表明,Sr和Zr在BaTiO3的Ba位、Ti位、及Ba/Ti双位并入均具有高固溶性,且为没有超结构特征的单相钙钛矿结构.Sr/Zr的双位并入加快介电峰向低温的移动.Sr掺杂对Ba(Ti0.8Zr0.2)O3介电峰移动率的贡献为-1.5℃/mol%Sr.抛光技术对介电温谱的影响研究表明,尽管水抛光导致(Ba0.75Sr0.25)(Ti0.8Zr0.2)O3陶瓷颜色变暗,但晶体结构不变、介电峰值降低.     

氟烷基硅烷改性硅树脂陶瓷防污剂研制及应用

通过添加甲基三氟丙基二甲氧基硅烷来改性硅树脂陶瓷防污剂可明显地改善防污剂的耐油性污渍的性能,同时氟烷基硅烷改性硅树脂陶瓷防污剂保持了有机硅树脂防污剂的持久防污性能的优点。用金相显微镜、扫描电镜观察抛光砖表面孔隙的变化。