全文获取类型
收费全文 | 3340篇 |
免费 | 127篇 |
国内免费 | 149篇 |
专业分类
电工技术 | 30篇 |
综合类 | 183篇 |
化学工业 | 468篇 |
金属工艺 | 643篇 |
机械仪表 | 877篇 |
建筑科学 | 129篇 |
矿业工程 | 44篇 |
能源动力 | 23篇 |
轻工业 | 340篇 |
水利工程 | 3篇 |
石油天然气 | 24篇 |
武器工业 | 23篇 |
无线电 | 365篇 |
一般工业技术 | 251篇 |
冶金工业 | 128篇 |
原子能技术 | 12篇 |
自动化技术 | 73篇 |
出版年
2024年 | 28篇 |
2023年 | 75篇 |
2022年 | 113篇 |
2021年 | 117篇 |
2020年 | 87篇 |
2019年 | 88篇 |
2018年 | 52篇 |
2017年 | 70篇 |
2016年 | 71篇 |
2015年 | 80篇 |
2014年 | 167篇 |
2013年 | 151篇 |
2012年 | 154篇 |
2011年 | 154篇 |
2010年 | 156篇 |
2009年 | 188篇 |
2008年 | 200篇 |
2007年 | 185篇 |
2006年 | 179篇 |
2005年 | 177篇 |
2004年 | 147篇 |
2003年 | 118篇 |
2002年 | 113篇 |
2001年 | 100篇 |
2000年 | 72篇 |
1999年 | 68篇 |
1998年 | 69篇 |
1997年 | 63篇 |
1996年 | 57篇 |
1995年 | 58篇 |
1994年 | 37篇 |
1993年 | 46篇 |
1992年 | 46篇 |
1991年 | 40篇 |
1990年 | 41篇 |
1989年 | 44篇 |
1988年 | 3篇 |
1981年 | 1篇 |
1980年 | 1篇 |
排序方式: 共有3616条查询结果,搜索用时 15 毫秒
71.
72.
73.
电解质等离子抛光表面粗糙度随时间变化规律 总被引:1,自引:0,他引:1
表面粗糙度是衡量抛光效果的最主要标准.依据电解质等离子抛光机理建立表面粗糙度随时间变化的数学模型,实验得出一定条件下经过不同的抛光时间之后试件表面的实际粗糙度值,用这些实验数据和数学模型进行非线性拟合,并根据拟合结果对数学模型进行了修正.修正后的数学模型与实验数据的拟合程度很好,校正可决系数达到了0.97139.在不同的抛光液温度下,又进行了2组实验,验证了修正后的数模模型与实际抛光时的情况基本一致. 相似文献
74.
75.
一种振动强化抛光装置及其试验 总被引:2,自引:0,他引:2
针对传统抛光方式的缺点,设计了一种可利用试件在含磨料液体中振动实现强化抛光加工的装置.这种利用游离态磨粒进行工件的抛光加工的工艺,可获得高的表面质量和表面粗糙度值,而且加工表面无加工变质层.通过正交试验证明加工时间是影响去除量的主要因素,而磨料粒度对表面粗糙度影响较大.试验条件下试件表面粗糙度可达Ra0.10μm,且试件表面的疲劳应力有所提高.从表面状态看,抛光加工后的试件表面并无磨料产生的很长的划痕,只有细密均匀的凹坑.试验证明本装置可对曲面进行强化抛光. 相似文献
76.
钛合金材料OIM试样的电解抛光及制备工艺 总被引:5,自引:0,他引:5
由于钛合金材料强度硬度较高,机械抛光通常不能去除试样表面的残余应变层,因而采用电解抛光是制备电子背散射衍射试样的理想方法。本研究通过正交试验进行优选,并对优选的电解抛光工艺参数进行调整,制定出了钛合金电子背散射衍射试样的快速制备工艺。 相似文献
77.
With Al2O3 and SiO2 as polishing medium, under different polishing conditions, e.g. with different polishing pressure, polishing time and polishing fluid, the influences of polishing treatment on the return loss of optical fiber connectors were investigated. The return loss of optical fiber connectors is 32-38 dB before polishing. The resuits show that dry polishing(i, e. no polishing fluid) with Al2O3 has less influence on return loss of optical fiber connectors, while dry polishing with SiO2 reduces return loss to about 20dB because of the end-face of optical fiber contaminated. The wet polishing(i, e. using distilled water as polishing fluid) with Al2O3 or SiO2 can increase return loss to 45-50dB, but wet polishing with Al2O3 may produce optical fiber undercut depth of 80-140nm. Wet polishing with SiO2 should be preferentially selected for optical fiber connectors and polishing time should be controlled within 20-30s. 相似文献
78.
学 《河北工业大学学报》2005,34(2):23
2004年12月10日,天津市科委组织并召开了“微晶、石英、光学、电子玻璃纳米磨料CMP技术的研究”项目成果鉴定会.该项目针对微晶、石英、光学、电子玻璃化学机械全局平坦化(CMP)中亟待解决的机理、技术和抛光液等问题,在大量实验的基础上,确立了微晶、石英、光学、电子玻璃的CMP机理模型;采用改进型1号液为微晶、石英、光学、电子玻璃代替了目前广泛使用的对人体有害、易造成污染的丙酮、重铬酸钾和浓硫酸洗液;加入FA/O表面活性剂,加快表面质量传递,保证在凸起处与凹陷处抛光速率选择性好,从而保证了平整度,有效降低了表面粗糙度且便于清洗; 相似文献
79.
80.
外科植入物用不锈钢金相试样的制备 总被引:1,自引:0,他引:1
对外科植入物不锈钢试样的制备进行了试验。结果表明,牙托树脂具有最佳的凝固速度和可填充性,可用手捏成任意的形状,使试样可任意地被压入或被包住,可做到试样镶嵌的随意性,尤其适合细丝和薄板的镶嵌;试面抛光选用非压敏胶植绒型抛光布,抛光效果好,可准确评定夹杂物;选用王水做侵蚀试剂,用擦拭的方法可有效地显示游离铁素体和其显微组织。 相似文献