氧化钨物理特征的测量

对铵钨青铜（ATB）、氢钨青铜（HTB），紫色氧化钨（TVO）和蓝色氧化钨（TBO）四种氧化钨粉的氮气吸附/脱附等温线数据的分析。可以得出其表面积，微孔体积，微孔分布，中孔体积，平均孔径和分数维数。吸附/脱附等温线数据的分析表明，TVO粉末具有最大的中孔体积，最小的微孔体积，最窄的孔径分布，最小的分数维数和最大的平均孔径，其有利于氢还原制取超细钨粉，而不利于掺杂工艺，HTB粉末具有最大的微孔体积，最宽的孔径分布，最高的分数维数和最小的平均孔径，对于掺杂工艺来说是有利的，ATB和ABO的上述参数界于TVO和HTB之间。结果表明，利用吸附/脱附等温线来研究氧化物的物理特征是一个很好的方法；在氧化钨用于氢还原工艺和掺杂工艺之前必须研究其物理特征。     

垂直磁化膜微畴结构的SEM观察

本文研究了用扫描电子显微镜(SEM)观察垂直磁化膜微畴结构的方法和观察结果。该方法的步骤是在试样表面制作高质量的干粉纹图,然后用高倍率二次电子象进行观察。由于SEM中的二次电子象具有景深大、分辨率高的特点,这项技术可用来研究磁畴的精细结构特征及其在磁化过程中的变化。     

软X射线对血液有形成分表面电荷的影响——2、淋巴细胞和血小板膜电荷的变化

软X射线不仅能引起红细胞表面电荷的变化,同时也能导致淋巴细胞和血小板表面电荷下降,表现为照射后它们的电泳率下降。低剂量范围内,这种电荷的变化是暂时性的,照后4小时降到最低点,24小时后恢复到对照的水平。细胞电泳率的下降与辐射剂量相关。淋巴细胞是一个复杂的细胞群,正常状态下,按细胞在电场中泳动速度的快慢,可分为两个组分:快峰为T细胞,慢峰为B细胞。软X射线照射以后,T和B细胞的电泳率皆减慢,频数分布峰值下降,离散度加大。血小板成分单一,电泳率较一致。 从照射浓集的血小板再加回自身血浆中电泳率的下降较照射血浆再加到血小板中的电泳率下降大得多;受照射的血小板在磷酸缓冲液中电泳率下降较在血浆悬液中严重得多;2000 rad照后,悬浮于血浆中的血小板电泳率能恢复,而悬浮于磷酸缓冲液中则不能恢复,三个方面来看,血浆中可能存在抗辐射因子。超氧化物岐化酶能有效地预防血小板电泳率的下降,从而可阻止血小板的凝聚。     

高耐磨二硫化钼聚氨酯弹性体除渣器通过省级鉴定

[本刊讯 ]十月二十六日 ,邹城市高新复合材料有限公司研制的新一代除渣器——高耐磨二硫化钼聚氨酯弹性体除渣器通过山东省科技厅组织的科技成果鉴定。高耐磨二硫化钼聚氨酯弹性体除渣器的具体做法是 :将适量的减磨剂二硫化钼以特殊的方式加入到聚氨酯中合成新型的聚氨酯改性材料。将该材料与该公司的专利技术——等速高效除渣器相结合 ,并在此基础上进一步完善、研制成功了高耐磨二硫化钼聚氨酯弹性体除渣器 (MSPV除渣器 )。该除渣器经多家造纸用户一年多的实际应用考核 ,具有使用寿命长、除渣效率高、良浆流失少、节能降耗等特点 ,经济…     

双跨换热器传热管在静水中阻尼特性的研究

本文对双跨换热器传热管在静水中的结构阻尼与粘滞阻尼作了简介,并对在总阻尼中占主导地位的挤压膜阻尼作了较深入的讨论。Mulcahy 于80年代初提出的挤压膜阻尼数学模型是较为完善的,其缺陷是未计入管子振幅的影响,本文对它进行了修正。为了验证理论分析的结果,笔者对双跨传热管在静水中的挤压膜阻尼作了实验研究,得出挤压膜阻尼与中间支承板厚度、管子-中间支承板间隙以及管子振幅之间的关系。     

金刚石膜的计算机虚拟制备技术中的分子动力学模拟

综述了近年来金刚石薄膜形成过程的分子动力学（Molecular Dynamics，简称MD）模拟研究，详细地阐述了原子间相互作用势的选取，总结了不同沉积条件下MD的计算模型和几种典型情况下的模拟结果。研究表明：在原子尺度上，MD方法能较全面地提供有关膜生长的信息，对进一步了解金刚石膜形成的微观机制以及为细观层次仿真提供基本信息均具有重要意义。     

里印故障与处理方法

前言:里印虽属软包装凹版印刷的范畴,作为凹版复合包装印刷如日中天。对此,包装印刷界深深体会到:“最易也最难”,因为复合包装印刷工艺技术的种类繁多,但一点是共同的——试产、试印、检测、论证/批产、批印、检验、认定,才使其达到适应、质量稳定。这是一个磨合的阵痛过程,虽然看似简单平淡,但做起来确非易事。实践和经验告诉人们:复合包装印刷油墨的应用同其它油墨一样在这个磨合期中只有运用、分析和积累,才能避免故障的发生。为此,下面就其常常出现的十一大故障(同表印一样的部分本文略述),介绍其处理的方法,以包装印刷界同仁商榷。     

钨酸根抑制不绣刚局部腐蚀的机理

用X射线光电子能谱(XPS)研究了AISI304不锈钢在含WO2-4+Cl-的模拟闭塞电池中形成钝化膜的组成与结构及WO2-4抑制其局部腐蚀的机理.研究表明,闭塞区内AISI304不锈钢表面的钝化膜的外层主要为WO2-4、CrO3、CrCl3、FeCl2和FeCl3,此外,还有少量的Ni2O3、Fe2O3、CrO2-4、γ-FeOOH以及Fe(OH)3;溅射5 min时膜内层主要为Cr2O3、CrOOH、Cr(OH)3、FeCl2、FeCl3和WO3,还有少量的WO2和WO2-4.WO2-4对钝化膜的影响在于WO2-4迁入闭塞区后吸附在金属表面,可全部或部分取代吸附在钢表面的Cl-,并与腐蚀产物Fe2+发生氧化还原反应生成Fe3+和WO2,WO2-4与Fe2+、Fe3+反应生成难溶化合物FeWO4和Fe2(WO4)3覆盖在阳极上,形成较耐蚀的保护膜,降低闭塞区内自催化效应速度,从而抑制局部腐蚀的进一步发展.