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GaAs器件工艺中等离子刻蚀及计算机辅助监控技术研究 总被引：2，自引：1，他引：1
陈正明 《固体电子学研究与进展》1994,14(2):182-185
用Ｎ２气和ＮＦ３反应气体，在较低的刻蚀功率下实现了用薄正性光刻胶ＡＺ１５１８作掩模，均匀、快速刻蚀ＳｉＯ２，ＳｉＯＮ，Ｓｉ３Ｎ４，ＷＮ，Ｗ等材料的等离子刻蚀技术。利用到蚀过程中射频参数的变化和计算机技术，将射频参数的变化在计算机屏幕上实时显示，实现了计算机辅助监控和终点检测技术。 相似文献
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CASE与MIS的开发 总被引：1，自引：0，他引：1
本文介绍ＣＡＳＥ技术的基本思想与构成，ＣＡＳＥ工具在ＭＩＳ开发中的作用，概要介绍国内流行的ＣＡＳＥ产品并对其作出评述。 相似文献
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本文通过分析天津市电机总厂成组技术及计算机应用的现状,总结出存在问题,提出解决措施,阐明在当今生产发展形势下,积极推广成组技术,走系统开发道路的必要性和可能性。 相似文献