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991.
通过低磨料浓度下催化反应对铜膜抛光速率的影响,证实了纳米SiO2胶体作为催化反应物可以极大地提高铜膜表面的化学反应速率。通过浸泡在不同磨料浓度抛光液中的铜电极表面腐蚀电位和腐蚀电流数值,进一步证实了催化反应能够加速凹处钝化膜的生成,并确定了在静态腐蚀条件下催化反应速率转换临界点所对应的纳米SiO2溶胶浓度为0.1vol%和1vol%。根据催化反应对铜晶圆各平坦化参数的影响,确定了低磨料CMP的最佳纳米SiO2溶胶浓度为0.3vol%,此时铜晶圆的抛光速率、台阶消除量、平坦化效率、碟形坑高度和腐蚀坑高度分别为535nm/min、299nm、56%、103nm和19nm。 相似文献
992.
993.
994.
提出了机械摆供货系统的机械反馈机构参数转换计算方法,并列出了参数转换函数表达式,为反馈机构的设计提供了可靠的数据保证,在解决机械摆随机同步跟踪俯仰机构问题时具有明显的优越性. 相似文献
995.
OPGW与ADSS在电力系统中的应用 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍电力系统特种光缆OPGW(架空地线复合光缆)和APSS(全介质自承式光缆)的特点、结构对性能的影响,同时分析了两种光缆在应用中的差异,并介绍了两种光缆在应用中应注意的一些问题。 相似文献
996.
997.
998.
999.
1000.
一种遥感相机的CCD交错拼接方法研究 总被引:5,自引:0,他引:5
随着技术的不断进步,遥感相机也向着宽谱段、大覆盖范围的方向发展.由于现有CCD的像元数有限,不能满足覆盖大视场的要求,需要对其进行拼接.通过分析现有拼接技术的优缺点,本文设计了一种不同于传统机械拼接与光学拼接的交错式机械拼接方法,并针对某可见、近红外宽谱段相机采用两片TDICCD进行了交错式机械拼接实验.实验结果表明,该方法的搭接误差小于2μm,平行误差小于3μm,共面误差小于6μm,满足相机的成像要求,并可在相机焦平面拼接的研究与实践中推广使用. 相似文献