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951.
热浸镀铝护栏的生产通过除油→除锈→烘干→热浸镀→精整等过程完成,最佳热浸镀温度为730~750℃,保温时间3~8min,护栏提升速度1m/s  相似文献   
952.
分析了微电子与微组装工艺的发展趋势,论述了21世纪电子整机制造缺陷的消除技术,探讨未来高技术高密度高效能小体积电子整机的维修问题,提出21世纪电子整机维修性的科研方向。  相似文献   
953.
本文主要介绍Eugene M.Dianov等人采用无氢SPCVD工艺制作首批氮氧化硅光纤的工艺过程,并分析氮氧化硅光纤的性能。这种光纤在近红外区的最小损耗为几个dB/km。光纤芯中的氮含量达到3%。  相似文献   
954.
专用粉的开发与生产标志着国家制粉工业进入了一个新的发展时期,本文通过对国外生产专用粉的基本原理和方法的分析介绍,着重探讨了立足国内生产专用粉急需解决的几个重大问题。  相似文献   
955.
刘鲁平  唐靖炎 《石材》1994,(3):7-10
为了适应国内外市场对大理石和花岗石圆柱面装饰的要求,靖江兴虹玉石工艺有限公司与国家非金属矿深加工工程技术研究中心通力合作,于1993年8月研制成功大理石、花岗石圆弧石板材加工生产线。该生产线设计新颖、结构合理、工艺先进、生产效率高,系国内首创(现已申报国家发明专利)。加工生产出的大理石、花岗石圆弧形板材,尺寸精确,细腻圆滑,光彩照人,深受用户欢迎,圆弧形石板材生产线已销  相似文献   
956.
在CIMS环境下,针对箱体零件CAD、CAPP、CAM信息集成的功能需求,在基于特征的箱体零件信息模型、工艺计划模型与服务于工艺设计的制造环境模型的支持下,开发出了特征造型,工艺设计及加工过程仿真与NC编程等子系统,从而完成了一个集成化的箱体零件CAD/CAPP/CAM系统。  相似文献   
957.
本文介绍了我们开发的FED工艺,包括;硅锥场致发射阵列的制作,栅极制作,阳极支柱的制作和平板透明真空封装,对工艺中的难点及对策作了详细描述。利用上述工艺,已经制成了平板数码管,其栅阴特性理想,阳阴之间也能测得明显的场致发射特性产伴有荧光激发。  相似文献   
958.
1μm宽硅深槽刻蚀技术   总被引:1,自引:1,他引:0  
王清平  郭林 《微电子学》1996,26(1):35-39
介绍了硅深槽刻蚀的基本原理和影响刻蚀效果的几个主要工艺因素。提出了一种实现1μm宽的硅深槽刻蚀工艺途径;并给出了1μm宽、8μm深、侧壁及底部光洁的硅深槽刻蚀工艺条件。  相似文献   
959.
郭松  李天毅 《纺织学报》1996,17(4):44-45
本文通过对化纤厂压洗丝饼工艺及设备的分析,找出了导致废品率高的主要原因,并提出了一条实现内部挖潜的切实可行的途径。  相似文献   
960.
伏广伟  狄剑锋 《纺织学报》1996,17(6):17-19,23
本文对山羊毛的卷曲机理作了比较深入的研究。实验证明,通过调节工艺参数,可人为地控制山羊毛的卷曲程度,对开发山羊毛资源具有重要意义。  相似文献   
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