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991.
Ada属于一种强类型通用程序设计语言,它比较适用于大型的复杂软件系统,尤其是实时和嵌入式系统。现在我国很多卫星型号软件都采用Ada语言进行开发。由于卫星使用的芯片代码区容量有限,为了实现更多的功能,提高卫星的使用率,对于代码的复用显得尤为重要。研究Ada语言的可重用性技术方法很有必要,通过对Ada语言重用性技术方法研究以及其实际应用介绍,能够更好的帮助软件开发人员以尽量少的代码来实现尽量多功能。  相似文献   
992.
防污涂料     
《涂料技术与文摘》2004,25(4):66-66
0404156甲基丙烯酸醋、其聚合物及其安全长效防污涂料:JP2003一327 623[日本专利公开]/日本:Nippon Paint Co.,Ltd.(、乞mamori,Naoki等)一2003.11.19一14页一2002八34 674(2002.59);护CC08F20/36 本发明揭示的是HZC:CMeCO(OCHZCHZ)nNXC6H4一n一CsH一7一4(I:X=H、PH02C;n=0一16),I(X=H)氢卤化物季盐及其(共)聚合物。例如,用甲基丙烯酞氯化物酷化H(OCHZCHZ)3N(COZCHZPh)C6H4一nCS H17一4,得到86%的甲基丙烯酸酷,其均聚物涂料对蓝色贻贝有很强的防污性,在20℃人造水中摇动10d后洗提30.9%。04041 57具有长效稳定防污性…  相似文献   
993.
抗静电涂料     
《涂料技术与文摘》2004,25(6):68-68
抗粘连性好的水稀释抗静电聚酯-聚氨酯底漆;抗静电粉末涂料的制备;  相似文献   
994.
本文介绍了有机磷类阻垢剂和高聚物类阻垢剂的研究进展及其阻垢机理和优缺点,详细描述了绿色阻垢剂聚环氧琥珀酸的合成、阻垢性能及复配聚环氧琥珀酸的阻垢、缓蚀性能,并对其生物降解性进行了介绍。  相似文献   
995.
《医药化工》2006,(5):45-45
2005年12月1目,日本大曹公司(Daiso)在美国医药公司很集中的新泽西州设立办事处,并开业运营。该公司以其核心业务手征性药中间体为中心,积极开发用户销售基地。紧接在美国设办事处之后,2006年4月大曹又将在中国上海建立办事处,目的是要加强在华市场芳基醚和表氯醇等产品的营销活动。此外,他还拟在印度、巴西和俄罗斯设办事处。  相似文献   
996.
姜明新  李月华 《橡胶工业》1997,44(5):280-283
对热裂法炭黑N990在EPDM和氯磺化聚乙烯中的应用进行了研究。试验结果表明,填充炭黑N990的胶料生热低,具有良好的耐疲劳性;静态浸泡试验表明N990具有优异的耐化学介质性能;N990胶料的门尼粘度较低,比快压出炉黑低19.5个门尼值;当其用量由55份增加到100份时,物理性能变化平缓,说明它具有高填充性。  相似文献   
997.
通过试验论述了热分析检测酚醛类高分子材料烧蚀性能的可能性。  相似文献   
998.
陆昊  石宗利 《河北化工》2006,29(11):35-36
分析了弹性乳胶漆涂膜污染的机理,并提出提高涂膜耐沾污性的措施.  相似文献   
999.
《涂料技术与文摘》2006,27(2):47-48
200602232基于水性聚丙烯酸酯分散体的单组分胶粘封闭剂复合物及其应用;200602233聚酯胶粘剂及其聚酯膜-层压钢板;200602234耐摩擦性、光泽和润滑性均好的油墨助剂和水性油墨;200602235出墨稳定印迹牢固的喷印油墨及其喷墨记录法;200602236书写工具、印刷油墨或化妆品用长余辉磷光油墨组合物……  相似文献   
1000.
《涂料技术与文摘》2005,26(4):56-60
涂装底材用含金属微粒的湿汽屏蔽组合物、涂覆工件及基材膜:US2005—3180[美国专利申请公开]/美国:(Kondos,Constantine A.),混凝土结构用表面处理剂:KR2002—7274[韩国专利]/韩国:(SungKyo等),耐化学品性及耐指印性优异的耐指印溶液及制备耐指印钢板的方法:KR2002—32735[韩国专利]/韩国:(Kwak,Yeong Jin),表面着色剂用的胶质载体组合物及其相关的应用方法:US2004—231562[美国专利申请公开]/美国:Surface Geltek Llc(Doolan,Daniel L.),具有优异防污性和防指纹性钢板用的树脂涂料溶液:KR2003—54375[韩国专利]/韩国:POSCO(Cho,Su Hyeon等),内用材料及其生产方法:JP2005—60888[日本专利公开]/日本:Toyo Linoleum Co.,Ltd.(Kubota,Mamoru等),室温固化光催化涂料组合物:JP2004—352874[日本专利公开]/日本:KBL Eizen Center Y.K.等(Kunii,Haruo等),用于降低粉笔粉末散射的溶液及其制备方法:KR2001—81621[韩国专利]/韩国:(Lee,Chul Kyu等)。  相似文献   
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