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本文研究了一种新的、具有实际应用价值的硅片吸除技术.该技术包括利用PECVD法在腐蚀硅片背面沉积400~800nm厚的非晶硅膜,再经过650~680℃温度的热处理,使沉积膜与硅片结合更牢固,之后,把硅片进行抛光.结果表明,该技术能有效地消除硅抛光片表面的雾缺陷,同时硅片表面层少子寿命可提高2~4倍. 相似文献
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醇镁还原法一步制取对氯苯胺是一种新的方法 ,研究发现最佳反应温度为 80℃~ 85℃ ,反应时间为4h ,对氯硝基苯与镁粉的用量 (物质的量比 )为 1∶3,产率为 80 %。 相似文献
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以特定污泥挂膜的自制厌氧生物滤床系统具有良好的去铬(VI)能力。恒流泵最佳流量为47mL/min,外加碳源使废水COD约140mg/L,铬(VI)的浓度由60mg/L左右降到0.5mg/L以下(一级排放标准),需要4h,而对照组(未加碳源)需要14h。铬(VI)浓度由64.66mg/L提高到75.53mg/L时,对系统负面影响甚微,提高到95.47mg/L时,系统出水达标所需时间延长到7.5h。添加微量金属离子与未添加微量金属离子的情况相比,处理效率提高21.26%。分析试验表明:铬(VI)的去除途径可能是由生物还原作用将六价铬还原为三价铬,形成氢氧化铬沉积于微生物表面。 相似文献