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为了实现不锈钢微细电解定域加工,提出激光掩膜表面改性微细电解复合加工技术。研发了激光掩膜微细电解复合加工装置,并进行样件加工试验。首先,采用光纤激光在304不锈钢表面扫描加热进行打标图案,利用X射线光电子能谱分析(XPS)对不锈钢表面激光打标图案进行分析,发现激光在不锈钢表面打标时被空气氧化生成铁、铬等氧化物,生成的打标图案具有耐腐蚀性,形成保护性掩膜。然后进行电解加工,由于掩膜图案在电解过程中起到保护作用,选择合适的电解加工参数,在不锈钢表面能加工复杂的微结构。最后利用SEM、光学轮廓仪来观测微结构形貌、粗糙度等。研究结果表明:利用激光表面改性,结合微细电解加工能实现304不锈钢微结构的快速加工,该工艺在微细加工领域具有很好的发展前景。 相似文献
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在液晶显示器的制造过程中,光刻是极为重要的制造工艺过程之一。将厚的独立的负胶膜或者将光刻胶涂敷在二氧化硅衬底上以后,可以测量其膜厚,因为光刻胶膜厚决定其光刻工艺的工艺条件。能够快速地测量光刻胶的膜厚,是液晶显示器制造过程的先决性工作的一部分。文章提出了测量上述光刻胶膜厚的新方法,即利用紫外可见吸收光谱法中的Beer-Lambert定律来确定膜厚。在我们的研究中,采用acrylic负胶作为基质(resin) ,它分别具有50μm和100μm的膜厚。在350 nm时,50μm的薄膜的最大吸收为0 .728 ,而100μm的最大吸收为1 .468 5。而在正胶的研究中,采用novolac作为基质(resin)。它的膜厚通常是1 ~5μm。在紫外可见吸收光谱测膜厚的实验中,当重氮荼醌的吸收波长为403 .8 nm时,5 .93μm厚的薄膜的最大吸收为1 .757 4 ,其膜厚是由扫描电镜测得的。而另一个正胶薄膜在403 .8 nm的最大吸收为0 .982 3 ,其薄膜厚度计算得到为3 .31μm。利用这些数据,我们得到了这两种光刻胶薄膜的紫外可见吸收光强与其膜厚关系的两个校准曲线。 相似文献
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U-Boot在S3C2440上的移植方法 总被引:4,自引:0,他引:4
Bootloader U-Boot功能齐全、应用广泛但移植到ARM微处理器S3C2440A上相对比较复杂.简介了常见的Bootloader,归纳了U-Boot的主要特征,分析了其运行过程,介绍了系统存储空间分布和基于S3C2440A微处理器为核心自主开发的嵌入式系统板硬件资源配置,给出了U-Boot在嵌入式系统板上的移植方法、移植过程和移植要点.最后对实验结果进行了测试.目前,U-Boot可以完成设计的功能并能够稳定的运行,为下一步移植Linux操作系统奠定了必需的基础. 相似文献
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采用激光技术对Cu基材进行表面强化处理。使用扫描电镜(SEM)、电子能谱计(EDS)和X射线衍射仪(XRD)对强化表面进行显微组织和物相分析,并测试了样品的显微硬度、耐磨性能和导电性能。结果表明,激光强化层无裂纹,组织细小均匀、呈快速凝固特征,强化层具有较高的硬度(平均硬度为625HV0.1)和良好的耐磨性,其磨损失重仅为纯Cu基材的1/5,而激光表面强化使导电性略微降低。激光表面强化层硬度和耐磨性的提高可归因于颗粒强化、细晶强化和固溶强化的共同作用,而导电性的降低程度主要受稀释率的影响。 相似文献
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分别采用液体聚丁二烯接枝甲基丙烯酸缩水甘油酯(LMPB-g-GMA)和无规聚丙烯接枝马来酸酐(APP-gMAH)对纳米氮化硅进行改性,制备改性纳米氮化硅/EPDM复合材料,并对复合材料的性能进行研究.结果表明:改性纳米氮化硅对EPDM具有良好的补强作用;随着改性纳米氮化硅用量的增大,复合材料邵尔A型硬度变化不大,定伸应力、拉伸强度和撕裂强度总体呈先增大后减小的趋势; LMPB-g-GMA改性纳米氮化硅/EPDM复合材料的拉伸性能和压缩永久变形优于APP-g-MAH改性纳米氮化硅/EPDM复合材料,但耐热空气老化性能略差. 相似文献
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某石英型尾矿表面改性及其应用 总被引:2,自引:0,他引:2
本文对石英型尾矿的预处理进行了研究 ,通过对改性尾矿和石蜡混合体系的粘度测定 ,得到了表面改性剂不同添加量对粉体表面状态影响曲线 ,确定了表面改性剂的最佳用量 ,另外 ,还对表面改性产品的性能进行了测定 ,最后还做了将改性尾矿用于聚乙烯塑料制品中的应用实验。 相似文献