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在“С.И.瓦维洛夫国家光学研究所(ГОИ)”光学镀层工作是30年代在И.В.Гребевшиков院士领导下开始的。到目前为止形成一个高度熟练的专家集体。它完成同光学镀膜工艺有关的一整套的工作。在镀制中采用所有现代的光学镀层的真空方法:电阻法和在高真空中的电子束蒸发法,阴极法,离子等离子体法,磁溅射法。镀层工艺中成功地采用离子加工方法,其中包括基板的离子净化,离子辅助(ассистрование),离子涂抹(платирование)。 相似文献
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建立了TiAl合金蒸发和沉积数学模型,采用活度系数体现溶池中不同组元的相互作用,影响组元蒸发速率的因素主要有元素饱和蒸气压和活度系数,计算值与试验值符合良好。研究结果表明,TiAl合金可以采用底部连续进给单一水冷铜坩埚通过电子束物理气相沉积得到。 相似文献
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对影响烧碱蒸发泊消耗定额的各种因素进行了分析,提出了采用综合利用指能,减少蒸发系统阻力、提高未效真空度、严格控制系统外加水量配套使用旋液分离器及加强设备、管道保温几点有力措施,完全可以将烧碱蒸发汽耗降到3t.t(NaOH100%)。 相似文献
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烧碱蒸发改造设计要点 总被引:1,自引:0,他引:1
为强化烧减蒸发生产能力和降低能耗,提出了如下蒸发改造设计要点:合理选用蒸发工艺流程;适当提高蒸发生产中的蒸汽压力;控制用好电解液浓度和温度;提高Ⅲ效蒸发真空度;选用适宜的采盐设备;充分利用冷凝水余热;大气冷凝器用水循环使用。 相似文献