稀土元素在有色金属合金中的形态、功能及稀土耐磨铜合金研制的初探

本文就稀土元素在有色金属合金中的孕育与变质作用予以论述，并根据这一理论试制了稀土耐磨铜合金、以证明稀土元素在有色金属合金中能使晶粒细化．有提高合金耐磨强度，改善机械加工性能的功能。     

暴利的美学——《闪客2》

《闪克2》保留了一代大部分的基本动作,同时去除了更多冗余的按键,真正在短兵相接的战斗中起到作用的几个键无非是飞扑、Shift、上下左右和攻击键,灵活运用这几个键位的搭配,才能使闪克保持高速杀戮状态。这个游戏目的就是让人们体验到它对于装备选择的重视程度,玩家不用带着一     

不同浊度下的泥沙对水体镉、铅、砷去除的影响分析

针对流域突发性重金属污染,不同浊度下的泥沙对重金属有一定的去除效果。以浊度为指示指标,通过试验研究了常温(25 ℃)和低温(5 ℃)条件下浊度50～650 NTU(Nephelometric Turbidity Unit)范围内泥沙对重金属镉、铅、砷吸附去除的影响。试验结果表明:泥沙对重金属镉、铅、砷的去除效果为铅＞镉＞砷,其中铅的去除率达到99%。浊度与能处理达标的最高重金属浓度呈线性关系,常温下浊度与能处理达标的最高镉、铅、砷浓度关系曲线的相关系数分别为0.996、0.998、0.999,低温下其相关系数分别为0.999、0.996、0.998。常温较低温更利于泥沙对重金属镉、铅、砷的去除,能去除更高浓度的重金属,达到生活饮用水卫生标准。     

我国工业污水集中处理厂运行及水质特征分析

以我国工业污水集中处理厂的实际运行和监测数据为基础,分析了我国工业污水集中处理厂的设计处理能力、污水处理量、水力负荷率及使用的主要处理工艺等,研究了COD、BOD5、NH3-N、TN、TP的进出水水质特征以及与去除效率的相关关系.结果 表明,我国工业污水集中处理厂以1万～5万m3/d的规模为主,平均水力负荷率较低,为43.9％,AAO工艺、AO工艺、普通活性污泥法、SBR类、氧化沟类和MBR类为主流工艺,合计占比达76.2％;进、出水浓度值相对偏高,浓度值波动幅度较大,除总氮去除效率较低外,4项污染物的去除效率均高于80％;66.1％的工业污水集中处理厂进水基本能满足生物除磷的要求,但有56.4％的污水处理厂进水可生化性较差,53.6％的污水处理厂反硝化过程需要外加碳源;5项污染物的进出水浓度和去除效率与本指标的变量均呈显著相关性,其中进水污染物浓度对出水水质、去除效率均为正相关影响.     

分段线性动态矩匹配条带去除

由于探测器之间对接收的地物辐射信号的响应特征不同,导致遥感数据含有条带噪声,严重影响了图像质量及后续的定量计算。针对探测器响应函数在图像低值区及高值区呈非线性的特点,在着重分析矩匹配方法的基础上,提出分段线性动态矩匹配条带去除方法。方法设定阈值分割高中低值域统计区间,对探测器响应函数进行分段线性拟合,并对探测器每一分图像动态采用其领域内均值和标准差作为参考值进行条带纠正。应用TM数据第4波段及环境一号卫星高光谱数据进行去条带实验,并定性和定量地比较了该方法与动态矩匹配、傅里叶变换、自动均衡化曲线方法的去条带效果。结果表明该方法能够在保留图像基本信息的前提下,获得最佳的去条带效果,尤其能够提高非均匀地物分布区域内水体的条带去除效果。     

基于保边滤波器的单幅图像高光去除

研究图像分割优化问题,由于图像中存在高光中,造成干扰,提出一种简单但有效的单幅图片高光去除方法。传统单幅图像高光去除方法,一般需要进行图像分割预处理,或者进行交互输入。提出的新方法无需图像分割预处理,也不要交互输入,而是使用漫反射色度估计值作为引导值,对最大色度图应用边界保留滤波器,并最终得到去高光后的图片。实验结果比较表明,与传统方法比较,该方法不但能够去除单色物体表面高光,对于复杂纹理表面高光非常有效,且输出图像在非高光区更接近输入图像,提高了图像分割效果。     

沉淀法去除废水中氯离子的应用对比分析

对不同沉淀法采用的机理、应用条件进行对比,结果表明,银量法和汞量法由于自身特点,仅能用于测试滴定;氯化亚铜法主要应用于低氯离子浓度的冶金、采矿等行业,氟硅酸铅法也是如此;水滑石(LDH)因后续焙烧,造成去除氯离子的成本过高而无法实现产业化;超高石灰铝法依靠原料价格低廉,氯离子去除率高,且形成的沉淀物作为重金属离子的吸附剂使用,具备产业化前景.     

砷、氟污染地下水净化技术进展

砷、氟污染水体及其共存问题是环境领域的热点问题,长期暴露其中对公众的身体健康存在巨大威胁.文章梳理了砷、氟污染物的来源,及砷、氟污染水体的分布与危害,并按吸附、离子交换、反渗透、电絮凝、膜法等分析了用于砷、氟处理的各类技术手段的利弊,以期为后续水体中砷、氟污染物的高效去除提供参考.     

磁流变抛光D型去除函数创成机制数值分析

磁流变抛光技术是超精密光学元件制造的最终工艺环节。为了进一步研究在磁流变抛光过程中,当工件的嵌入深度不同时,其去除函数对抛光区域内磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响,作者通过开展数值计算对相关参数进行试验、分析,探明了在磁流变抛光过程中,其加工工件的嵌入深度不同对磁流变抛光液的压力、速度、密度的影响机制,得出了当加工工件的嵌入深度逐渐变深时,磁流变抛光液的压力会随其变深而增大、磁流变抛光液的运动速度相反会随其变深而逐渐减小、磁流变抛光液的密度会随其变深而逐渐增大的结论。