高功率脉冲CO_2激光器9.3μm波长选支研究

为获得中心波长9.3μm激光的高功率输出,利用高功率脉冲CO2激光器进行选支实验研究。采用腔镜镀膜选支技术,通过控制对不同波长的透射率或反射率参数,在稳定腔和非稳腔中都得到了中心波长9.3μm激光的单谱线输出。在相同工作参数下,稳定腔中心波长9.3μm激光的能量为其原中心波长10.6μm激光的95%,非稳腔中心波长9.3μm激光的能量为其原中心波长10.6μm激光的93%,两种腔型中心波长9.3μm激光热敏纸光斑颜色与中心波长10.6μm激光的有明显不同。实验表明,采用腔镜镀膜选支技术在稳定腔和非稳腔中都能获得中心波长9.3μm激光的单谱线输出,且激光能量与原腔型输出中心波长10.6μm激光的基本相当。激光热敏纸光斑显示出在相同单脉冲能量作用下,中心波长9.3μm激光对物质的冲蚀作用高于中心波长10.6μm的激光。     

基于LabVIEW和DSP的容型设备介损在线检测

提出了一种介损数字化测量的二次DFT算法,并给出实现该算法的具体步骤。然后在给定的计算精度要求下通过仿真,确定出使用该算法所需处理器的计算速度、硬件采样分辨率、采样频率、相应的存储器容量的要求,并以此为依据,研制出一套基于TMS320F2812型DSP处理器的新型分布式介损在线检测设备,该系统相比于单片机加过零法的传统方案,减少了锁相环,外部AD等模拟环节,更加简单可靠。测试结果表明,该系统能有效提高tanδ的测量精度。     

ViSa非接触式移动支付方案投入商业应用

Visa公司SNVisa欧洲近日宣布正式推出基于Device Fidelity公司开发的In2Pay microSD解决方案的非接触式移动支付的商业应用。这是Visa历史上首次将非接触式移动支付解决方案用于相关兼容产品,该方案将在美国和一些指定市场由金融机构推出并正式投入商业应用。     

科学级光学CCD像素非均匀性的测试

像素非均匀性是CCD成像性能评价中的一个重要指标,反映的是像素结构本身的差异。传统的以灰度值为基础计算DSNU和PRNU的方法未能考虑读出电路引入的时域噪声,且计算时未剔除不同像素曝光时间不同带来的误差,计算结果也只适用于某个具体曝光量。在分析CCD信号流的基础上,厘清灰度值不均匀的影响因素。参考DSNU和PRNU的计算方法,再结合帧转移型CCD的工作方式,提出了设置多档曝光时间,每档曝光时间下采集多帧暗（亮）图像,再通过拟合求得暗电流（暗电流+光电流）后并以之为基础计算暗电流非均匀性DCNU和光电流非均匀性PCNU的方法。同时,建立CCD像素非均匀性测试系统,验证其光源的稳定性和均匀性,以排除采集图像过程中测试系统引入的时域和空间误差。在此测试系统的基础上,利用新方法测得CCD的DCNU为25.51 e-/pixels-1,PCNU为0.98%。相比于传统的DSNU和PRNU值更准确地反映了CCD像素结构的非均匀性,所得结果更具普遍适用性。     

用于微电子封装的电子胶粘剂及其涂覆工艺

介绍了电子胶粘剂及其涂覆工艺,其所涉及的工艺有大量式点胶(Mass Dispensing),接触式点胶(Contact Dispensing),非接触式点胶,总结了各种分配技术的优缺点,指出了不同分配技术的适用情况,提出电子胶粘剂涂覆工艺技术方案。     

一种300万像素全画幅非制冷红外探测器

研制出一种全画幅QXGA(Quad Extend Graphic Array)非制冷氧化钒红外焦平面探测器。探测器阵列规模达到2048×1536,像元尺寸为17?m×17?m,有效光敏面积约为35 mm×26 mm。读出电路面积达到41.34 mm×39.37 mm,采用8英寸0.18?m 1P6M一版多曝的缝合拼接曝光工艺设计及加工,电路奇偶行同时积分、读出,有效提高像元积分时间。探测像元采用成熟的17?m氧化钒微桥结构,超大面积MEMS(Micro-Electro-MechanicalSystems)结构采用"多版一曝"、"一版多曝"的组合拼接曝光设计及加工技术。探测器采用高可靠性的标准金属真空封装。测试结果表明,器件的噪声等效温差(NETD)小于45 m K,热响应时间小于7 ms,响应率非均匀性小于8%,器件帧频大于60 Hz。     

掺Er3+光纤中利用非解析点的信息速度测量

针对光速可控情况下信息的传播速度问题,提出利用非解析点方法测量掺Er3+光纤(EDF)中慢光和超光速情况下的信息速度.实验结果表明,可以通过调节泵浦光功率来控制慢光或者超光速传播的群速度,由于信息的传递速度不受群速度的影响,在我们测量精度内,非解析点代表的信息速度不会超过真空中的光速.     

浅议电视信号的数字化与码率压缩

介绍了电视信号数字的优点、含义和彩色电视信号的编码标准——CCIR601建议，讨论了电视信号常用的码率压缩技术。     

红外焦平面阵列基于黑体的非均匀性校正方法中的限制因素

以基本的红外辐射理论为依据,阐述了红外焦平面阵列非均匀性校正的物理原理,首次综合性地论述了标定类方法所存在的三个基本限制因素,并重点给出了红外焦平面阵列响应漂移的实验结果.