印刷法制作OLED

凸版印刷公司开发了印刷法制作OLED新技术，解决了现有真空蒸镀技术很难制作51cm（20in）以上OLED屏的难题。该技术开发样品尺寸为14cm（5．5in），分辨率为80ppi，像素间隙为300μm。计划2007年开始正式投入生产。     

埃克森-美孚将推出新型茂金属乙丙弹性体

新华社报道 :据海外媒体报道 ,美国埃克森 -美孚化学公司计划于 2 0 0 4年上半年推出其用茂金属催化剂和溶液法聚合工艺制备的特种乙丙弹性体新系列产品DubbedVistamaxx。据报道 ,这种热塑性弹性体性能优于茂金属塑性体 (如该公司产品Exact) ,适用于制备流延膜、纤维和改性聚烯烃 (包括TPO) ,应用市场范围广泛 ,可用于制造汽车内饰件、外饰件以及无纺布、包装、个人卫生用品和电线电缆。研究人员介绍说 ,Vistamaxx是一种特殊半结晶结构弹性体 ,与其它聚合物相容性好 ,非常容易加工 ,可以单独做原料 ,也可以与其它聚合物形成共混物。制备…     

下一代光刻开发的进展

虽然下一代光刻(NGL)技术的开发仍在继续大力开展工作，但许多人一直支持“不断延续光学光刻”的呼声。248nm光刻性能的进一步扩展，更激励许多企业界人士指望用193nm光刻来完成45nm技术节点的光刻。     

PECVD法低温沉积多晶硅薄膜的研究

在玻璃衬底上采用常规的PKCVD法在低温(≤400℃)条件下制得大颗较(直径＞100nm)、择优取向(220)明显的多晶硅薄膜。选用的反应气体为SiF4和H2混合气体。加入少量的SiH4后，沉积速率提高了近10倍。分析认为，在低温时促使多晶硅结构形成的反应基元应是SiFmHn(m n≤3)，而不可能是SiHn(n≤3)基团。     

Ku波段波导型双工器的研制

采用高精度的模式匹配法设计了一种Ku波段波导型双工器。双工器采用H面T接头和E面横向膜片波导带通滤波器。采用该方法设计的双工器精度高，结构简单，便于加工。文中也将理论结果和实测数据进行了比较，两者吻合得很好，证明了模式匹配法的精确性和有效性。     

具有控制项的限定记忆卡尔曼滤波器

在已有的限定记忆卡尔曼滤波器的基础上 ,将确定性先验信息作为控制项加以应用 ,推导出了完整的限定记忆卡尔曼滤波公式 ,从而在记忆长度确定的情况下 ,有效地减小了模型不准的误差 ,降低了滤波总误差。仿真同样表明了该方法的有效性     

溶胶--凝胶镀膜技术综述(连载5)

第三节　常见氧化物膜目前研究最多的氧化物膜可谓二氧化硅和二氧化钛膜 ,这两种薄膜也是接受呈色离子、制备彩色镀膜常用的基体膜 ,所以 ,有必要将它们单独列出 ,加以讨论。1　二氧化钛膜在所有高折射率材料中 ,由钛的化合物制备的氧化物膜具有特殊的实际意义。因此 ,对二氧化     

石墨炉原子吸收光谱(GFAAS)法测定石英玻璃中硼的研究

试样经氢氟酸分解，通过加入化学改进剂和多次注射浓缩样品及低温、长时间灰化的方法，在硝酸介质中用石墨炉原子吸收光谱法(GFAAS)测定石英玻璃中硼的含量。该方法解决了GFAAS法分析石英玻璃中硼灵敏度低和准确度低的问题。     

基于对地观测激光回波特征的目标特性研究

本文研究了对地观测激光回波特征与地面目标特征之间的关系模型，分析了分类地面目标的激光回波特征，提出一种基于查表法的目标特性计算方法并给出了仿真结果。     

矩量法结合AWE技术分析阵列天线

从工程角度出发,应用AWE技术结合矩量法分析阵列天线的辐射特性。首先采用投量法求解阵列天线的电场积分方程,得到某一频率点的电流分布和输入阻抗;然后通过Pade逼近获得任意频率的导纳,从而得到阵列天线的频率响应;最后针对一六单元八木阵列天线进行分析,给出了天线上的电流分布、输入导纳以及辐射方向图,并对AWE/MOM与MOM的计算结果进行比较,两者比较接近,但AWE/MOM可大大加快计算速度。