浅谈水闸安全检测

通过对华东沿海地区80年代以前修建的一些在役水闸工程的系统安全检测和分析,发现了水闸工程存在的安全隐患,同时也了解水闸工程尚有的潜在能力。提醒水闸管理部门,在役水闸满足目前社会发展需要的同时,还必须高度重视水闸的安全生产运行和管理。水闸安全检测就是利用先进的检测手段,为业主及时、高效、经济和高质量地解决水闸工程存在的实际问题。     

可编程光学二值双轨逻辑门

基于双轨逻辑,本文提出一种可级联的并行二值逻辑门。所有十六种二值逻辑运算可以采用偏振半波相延编程来实现。也提出了用电光晶体实现实时编程的方法。本文中给出了实验结果。     

液压启闭机CAD系统研究

简要介绍了在引进支撑环境下独立开发的专用ＣＡＤ系统应用软件－“液压启闭机ＣＡＤ系统”的运行环境、结构特点，主要功能模块的功能、开发过程中碰到的关键技术难点及解决办法。     

永丰县上保水库溢洪道采用异型进口的效益

本溢洪道设计采用了异型进口水力设计的科研成果，与常规设计相比，这种溢洪道具有进口布置灵活，增加堰长，减小单宽溢流量，降低堰上溢流水头等特点，上保水库溢洪道由于采用了异型进口，在不断加工程投资和最高库水位不变的条件下，使堰顶高程提高1．39m，增加有效库容、灌溉面积分别为27．8％和27．7％，经济效益显著，由此可见，溢洪道异型进口确实是一项值得推广的工程实用技术。     

45号钢二次枝晶臂间距与冷却速度的关系

本文利用可控平均冷却速度的单向凝固实验炉测定了４５号钢在不同平均冷却速度下的冷却曲线，由此得到其在凝固期间的平均冷却速度Ｒ，相应地测量了不同平均冷却速度下试样的二次枝晶臂间距Ｓ２，通过回归，得到了如下关系式：Ｓ２＝７２７Ｒ－０．４１，并将引式成功地应用于实际生产中。     

黄坛口水电站溢洪道弧形闸门的安全检测与更新改造设计

黄坛口水电站建于50年代,设计和施工时在总体布置上没有考虑弧形闸门的检修条件,使闸门一直处于挡水状态,存在相当多的隐患。通过对弧形闸门和启闭机的安全检测,分析了弧形闸门和启闭机存在的缺陷,提出了更新改造设计方案。     

门式脚手架在已建高层建筑外装修中的应用

介绍门式脚手架在已建高层建筑外排栅中的整体搭设和应用实例。     

做好闸坝定期巡检确保安全运行

根据国家电力监管委员会《水电站大坝运行安全管理规定》和《混凝土大坝安全监测技术规范》对巡视检查工作的具体要求,结合映秀湾水力发电总厂所辖三座闸坝运行的实际,阐述闸坝安全巡视工作的作用及应重点做好的定期检查及日常巡检工作的内容和要求.     

On‐Line Detection Of State‐Of‐Charge In Lead Acid Battery Using Radial Basis Function Neural Network

To realize a stable supply of electric power in an automobile, an accurate and reliable detection method of SOC (state‐of‐charge) in a lead acid battery is required. However the dynamics of the battery is very complicated. The characteristics of the battery greatly change due to its degradation. Moreover a automobile has many driving patterns, which are unknown beforehand. Thus it is not easy to detect the SOC analytically. In this paper, to overcome this problem, a new on‐line SOC detection method with a radial basis function neural network is proposed. In order to increase the detection accuracy of degraded batteries, physical values related to the degradation degree are used as input signal in the neural network. The detection accuracies for different sized batteries and various degradation states are investigated.     

同步辐射x射线光刻制作深亚微米T形栅

x射线光刻非常适合用于深亚微米T形栅的制作,这是因为它的高分辨率、大的曝光视场和高的生产效率足以满足MMIC制造工艺的要求。本文中我们首先对我们的x射线掩模制造工艺进行介绍,然后论述了一种用于制造深亚微米T形栅的两层胶工艺,介绍了所取得的一些研究结果,最后对国内的深亚微米光刻现状进行了简要分析。