凝汽器铜管残碳膜腐蚀实例分析

对蒲山电厂凝汽器铜管的腐蚀泄漏原因进行了试验和腐蚀过程分析，找出了原始铜管存在的残碳膜和品体缺陷是腐蚀的诱发因素，采取了针对性的镀膜处理和一系列运行管理措施，达到了预期的效果。     

聚醚砜酮薄膜在炭化过程中化学结构的变化

用傅里叶变换红外光谱法研究了聚醚砜酮薄膜试样在氩气氛中，室温至950℃热解过程中固体残留物的内部结构的转变。根据谱带的变化规律，提出了试样在热解炭化时会沿着二氮杂萘环的N—N键断裂，形成共轭腈基及异氰基的苯环化合物。异氰基化合物进一步二聚成二苯基碳化二亚胺，后者又聚合生成含氮杂环的多环芳烃。继续热解炭化会导致芳杂环的合并和脱除HCN等气态小分子，生成连续巨大的含氮杂芳环多环化合物。再经稠环芳构化最终得到具有芳环层面结构的大分子固态残留物。     

金属有机物化学气相沉积法沉积镍膜的影响因素

为了获得高速沉积镍膜的工艺参数，以羰基镍[Ni(CO)4]为前驱体，用金属有机物化学气相沉积法进行试验，以SEM，DSC，XRD测试分析技术探讨了载气、温度和羰基镍的摩尔分数对沉积速率的影响；也探讨了温度及羰基镍的摩尔分数对镍膜微观形貌的影响。结果表明，以氩气为载气比氦气为载气更容易获得高沉积速率；在沉积温度为150℃左右可获得沉积速率较快、微观形貌较好的薄膜；随羰基镍摩尔分数的增加，沉积速率也明显增大，同时薄膜的微观形貌也变得较为粗大，但达到30％之后，沉积速率增速减缓。     

磁控溅射技术新进展及应用

主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果.     

低辐射薄膜的研究进展

低辐射薄膜(Low-E Film)发展了20多年,它的高可见光透射率和高红外紫外光的反射率被应用在很多领域.低辐射薄膜一般由在线法和离线法制备,所得结构不同,性能也有较多差异.时低辐射薄膜的制备方法、性能,以及最新研究进展和应用进行了综述,并对2种类型的低辐射薄膜进行了比较.     

铸造针孔和钠变质对ZL101铸铝合金组织和性能的影响

采用宏观检查和金相检验的方法，研究了铸造针孔和钠变质对ZL101铸铝合金组织和性能的影响。试验结果表明，在浇铸ZL101铸铝合金时，提高冷却速度，增加凝固压力，降低浇铸温度，同时进行钠变质处理，有利于铸造针孔的减少和组织的细化及力学性能的提高。     

ZrO2薄膜的力学性能和摩擦学性能研究

在单晶硅表面成功地获得了自组装单层薄膜(MPTS-SAM),并将薄膜表面的巯基(-SH)完全氧化成磺酸基(-SO3H),从而获得了磺酸化的MPTS-SAM.采用静电自组装技术成功使ZrO2纳米微粒组装到磺酸化的MPTS-SAM表面获得淀积ZrO2薄膜.将ZrO2薄膜分别在500℃和800℃进行热处理后,ZrO2薄膜的厚度逐渐减小,这可能是随着温度的升高薄膜的表面密度逐渐增大所致.对ZrO2薄膜的力学和抗划伤性能分析发现:随着温度的升高,ZrO2薄膜的硬度和弹性模量依次增加,同时薄膜的抗划伤性能也逐渐提高.摩擦磨损实验表明:利用该方法制备的ZrO2薄膜经800℃烧结处理后适于在低负荷、低滑动速度下作为减摩、抗磨保护性涂层.     

利用掺杂及梯度复合技术对生物材料进行TiO2(Ta5+)/TiN薄膜表面改性的研究

采用磁控溅射技术同热氧化相结合的方法合成TiO2(Ta5 )/TiN复合薄膜,并对薄膜的硬度、摩擦磨损等力学特性以及血小板粘附等血液相容性进行了研究.研究结果表明,掺杂使血液相容性提高,梯度复合使力学特性改善,因而薄膜具有良好的力学耐久性和血液相容性.此外,薄膜与血液的界面张力也被测试.结果表明,低的薄膜/血液界面张力改善了TiO2(TA5 )/TiN复合薄膜的血液相容性.     

浸泡后多孔硅的结构及光致发光特性

用电化学腐蚀方法制备了多孔硅样品,在浸泡液中浸泡使其表层多孔层与样品分离,在样品表面形成了丰富的SiO2包裹纳米硅颗粒结构,研究了样品的光致发光(PL)特性.结果表明,与剥离前相比,表层多孔层剥离后PL谱的强度约有10倍的增幅,峰位主要在蓝紫光范围内.在300℃干氧中退火后,样品的发光强度下降为退火前的三分之一,随着退火温度的升高,发光强度有所增强.退火前后有不同的发光机理,退火前光激发主要在纳米硅内,然后在二氧化硅层中的发光中心辐射复合;退火后光激发和光辐射都发生在二氧化硅层中.     

用ECR氮等离子对纳米TiO2薄膜光谱响应改性的研究

采用ECR氮等离子对纳米TiO2薄膜表面进行氮注入处理来改善纳米TiO2催化剂的光谱响应范围。处理后表面颜色变成微黄色，说明氮离子已注入到TiO2薄膜里；AFM观察处理前后的薄膜，发现表面形貌没有很大改变；紫外—可见光谱分析结果表明，TiO2薄膜催化剂的光谱响应红移了12—18nm；通过不同功率、不同处理时间研究显示，在微波功率为400W、处理60min改性效果最理想。