缩短SWRH82B硬线时效期工艺研究

分析影响SWRH 82B硬线时效性能的各种因素,通过有针对性的工艺试验,找出相应的技术应对措施,从而缩短SWRH 82B硬线的时效期,财务计算分析显示其经济效益明显提高。     

乘积码译码算法研究与仿真实现

简要介绍了构成乘积码的分量码的Chase2译码算法,并对算法中关于测试图样的产生方法进行了改进,提出了一种可以快速进行伴随式计算的测试图样构造方法,根据计算所得伴随式给出了一种带偶校验的测试序列的硬判决译码方法.把改进后的Chase2译码算法应用到乘积码的迭代译码中,并进行了仿真研究,对不同迭代次数的译码结果进行了分析比较,当迭代次数增加时,译码性能逐渐改善.     

LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化

为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化。实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻蚀对侧壁剖面角及刻蚀线宽的精确控制能力,又利用了湿法刻蚀高刻蚀选择比的优良特性,改善了层间绝缘层刻蚀形貌,减少干法刻蚀对器件有源层的损伤,避免有源层被氧化,防止刻蚀副产物污染开孔表面。实验结果表明,干法辅助湿法刻蚀能基本解决刻蚀过程中过刻、残留的问题,使得层间绝缘层过孔不良良率损失减少73%以上,且TFT源漏电极接触电阻减小约90%,器件开态电流提升约15%。干法辅助湿法刻蚀是一种优化刻蚀工艺,提升产品性能的新方法。     

铝材在包装、容器工业上的开发与应用

介绍了包装、容器铝材的发展概况,着重论述了铝合金易拉罐罐料的应用与开发及包装铝箔的开发与应用。指出铝合金材料仍是各种硬包装和软包装的主要用材之一。     

对反辐射武器的对抗技术

为了提高防空雷达的生存能力,开展对反辐射武器对抗技术的研究具有十分重要的意义。反辐射导弹对抗系统的研究,应根据反辐射导弹的特征和存在的缺陷,从反电子侦察、告警和干扰三个方面进行。本文综述了对反辐射武器对抗技术的发展现状。     

空间非线性振动烘干机的近共振研究

针对线性非共振式振动烘干机工程应用上存在的诸多问题,应用非线性振动理论,将其改进为非线性近共振双质体振动烘干机,建立其力学模型与运动方程,可求得硬式光滑空间非线性振动烘干机质体振幅、幅角等参数。在此基础上进行系统振幅稳定性与近共振实验,使工作点稳定在频率比Z0=0.9附近的近亚共振区工作,解决现有振动烘干机存在的工作点滑移、振幅不稳、维修频次高、功耗过大等问题,可实现系统显著节能、降噪与高效的工程效果。     

碳钢基体磁控溅射SiC薄膜结合力研究

采用磁控溅射法在T10钢表面获得了SiC薄膜,并研究了溅射方式、工艺参数以及中间层对薄膜结合性能的影响.试验结果表明,采用功率为200 W射频法和时间为2 h的SiC/Ni-P双层薄膜结合力最好.     

Ultra DMA模式下硬盘数据加密系统的设计及FPGA实现

设计了基于FPGA芯片的硬盘数据加密系统。该加密系统运行在Ultra DMA传输模式下,其加密核支持常用对称密码算法（AES、DES、3DES）和用户自主开发的各种对称密码算法。测试结果表明,在Ultra DMA模式2下系统运行速度为32 Mbps,对计算机正常运行没有任何影响。     

表面激光熔覆对体育器材硬度的改善北大核心CSCD

为了能够明确激光熔覆技术对体育器材硬度的改善效果,提出分别从复合涂层、层间停光时间以及激光扫描速度方面变量参数进行硬度影响分析,研究三氧化二铝含量对复合熔覆层形貌、显微硬度和耐磨性能的影响,多层熔覆对激光熔覆层微观组织和硬度的影响,激光扫描速度对熔覆层宏观形貌、相组成、显微组织、成分及硬度分布等影响。进行了理论分析和实验验证,结果表明,随熔覆层表面距离增加,激光熔覆层显微硬度会减小,器材硬度会呈现出先增加后减小趋势;第二层熔覆距离降低使第一层中硬度随距离减少而提高;通过增大扫描速度,熔覆层的组织有细化趋势,组织不均匀性得到改善,同时熔覆层厚度降低,稀释率减小,使熔覆层平均硅含量提高,显微硬度改善。     

Si(111)衬底上GaN外延材料的应力分析

对Si(111)衬底上GaN外延材料的应力随着低温AlN插入层数的变化进行了分析研究。通过喇曼散射谱在高频E2(TO)模式下的测试分析发现,随着低温AlN插入层数的增加,GaN材料的E2(TO)峰位逐渐接近体GaN材料的E2(TO)峰位(无应力体GaN材料的E2(TO)峰位为568cm-1),计算得出GaN材料的应力从1.09GPa减小到0.42GPa。同时,使用室温光荧光谱进行了分析验证。结果表明,Si衬底上GaN外延材料受到的是张应力,通过低温AlN插入层技术可以有效降低GaN材料的应力,并且最终实现了表面光亮的厚层无裂纹GaN材料。