基于对地观测激光回波特征的目标特性研究

本文研究了对地观测激光回波特征与地面目标特征之间的关系模型，分析了分类地面目标的激光回波特征，提出一种基于查表法的目标特性计算方法并给出了仿真结果。     

机械合金化Fe-Ni粉末的相结构

使用XRD和Moessbauer等方法，研究了在Ar气氛下机械合金化Fe—Ni粉末相结构的变化．结果表明，在机械合金化Fe64-Ni36粉末过程中，fcc相的数量随着球磨时间的增加先增加然后减少，与加乙醇球磨Fe64-Ni36的情形相同．当Ni的含量(原子分数)大于50％时，有fcc相、顺磁相和FeNi3形成，当Ni的含量低于50％时，bcc相的数量随着Ni含量减少而增加．Moessbauer谱的结果表明，因球磨时间或Fe、Ni比例的不同，Fe—Ni球磨粉末固溶体具有不同结构的原子配比。     

掺Er Al2O3光波导薄膜材料的制备及光学特性

介绍了掺ErAl2O3光波导薄膜的四种典型制备方法的研究结果。比较铒的发光环境和发光特性,分析了影响光致发光强度和寿命的条件和因素。不同工艺制得的Er∶Al2O3薄膜,膜内成分、膜的晶相、掺杂浓度等对Er3 的发光特性均有影响。退火对发光特性及材料具有改善作用。     

浅谈应用标准进行软件测试

国家标准GB T175 44规定了软件包的质量要求及针对这些要求如何对软件包进行测试的细则。质量要求从产品描述、用户文档、程序及数据三个方面进行了规定 ,测试细则依据这些规定制定。ISO IEC912 6 (1991)版由ISO IEC 912 6 (软件产品质量 )和ISO IEC14 5 98(软件产品评测 )两个标准代替 ,ISO IEC912 6表述了软件产品质量的内部质量、外部质量和使用中的质量 ,规定了内部质量、外部质量的六个质量特性 ,并细分为 2 1个子特性 ,使用中的质量规定了四个使用质量特性 ,使用质量是指六个软件产品质量特性的综合效果。进行软件测试时 ,可以依据GB T175 44中的规定组织测试过程再结合ISO IEC912 6中的质量特性及子特性的规定确定测试需求的内容和测试的重点 ,利用ISO IEC912 6质量的规定建立质量评级的标准。     

铝薄膜CMP影响因素分析

提出了在碱性抛光液中铝薄膜化学机械抛光的机理模型,对抛光液的pH值、磨料、氧化剂浓度对过程参数的影响做了一些试验分析。试验结果表面粗糙度的铝薄膜所需的最优化CMP过程参数:硅溶胶粒径为15～20nm,pH值为10.8～11.2,氧化剂浓度为2.5%～3%。     

电荷耦合器件积分时间对微型成像系统成像质量的影响

在光圈固定的情况下，确定合适的积分时间对于提高微型电荷耦合器件(CCD)成像系统的成像质量，增强微型飞行器的侦察能力具有十分重要的意义。本文讨论了决定CCD积分时间的各种因素，重点研究了适用于微型飞行器的CCD成像系统的积分时间与像移的关系，并进一步推导了计算像移量的相关数学模型。利用该模型对不同积分时间内采集的运动图像进行了像质评价，结果表明，在保证曝光量的前提下，当像移量被限制在1个像素内时，可以获得相对理想的运动图像像质。     

Characterization and optimization of copper chemical mechanical planarization

The feature scale planarization of the copper chemical mechanical planarization (CMP) process has been characterized for two copper processes using Hitachi 430-TU/Hitachi T605 and Cabot 5001/Arch Cu10K consumables. The first process is an example of an abrasive-free polish with a high-selectivity barrier slurry, while the second is an example of a conventional abrasive slurry with a low-selectivity barrier slurry. Copper fill planarization has been characterized for structures with conformal deposition as well as with bumps resulting from bottom-up fill. Dishing and erosion were characterized for several structures after clearing. The abrasive-free polish resulted in low sensitivity to overpolish and low saturation levels for dishing and erosion. Consequently, this demonstrated superior performance when compared to the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) 2000 roadmap targets for planarization. While the conventional slurry could achieve the 0.13-μm technology node requirements, the abrasive-free polish met the planarization requirements beyond the 0.10-μm technology node.     

小块气藏早期动态特征综合评价

应用试井方法，提出一套比较切合实际的小块气藏动态特征综合评价方法，推导出水驱气藏水侵量的计算公式，编制了天然气高压物性参数计算和气藏稳产年限预测等程序软件。     

地下通风系统管理的新技术——系统特征图

本文介绍系统特征图的原理与方法 ,及其推广应用的前景     

Processing and microstructure of non-oxide ceramic fibres

Research and development efforts on high-temperature, oxidation-resistant fibres have increased over the past decade due to the demand for light-weight, stiff and strong composite materials in aerospace applications. Varieties of ‘high-performance’, continuous, non-oxide fibres with low-density, high tensile strength and tensile modulus have been developed either from organic precursors or via chemical vapour deposition for fabrication of ceramic matrix composites. Fibres derived from polymer precursors (e.g. Nicalon, Tyranno, HPZ) are small in diameter (compared to CVD monofilaments) and are ideally suited for ceramic composites. Processing, microstructural stability and mechanical properties of these newly developed SiC and Si₃N₄ base fibres are briefly reviewed in this paper.