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951.
ZSM-5分子筛的磷改性及其碳四烯烃催化裂解性能
薛扬,袁桂梅*,陈胜利,李淑娟,袁锐
(中国石油大学(北京)重质油国家重点实验室,北京 102249)
为了提高丙烯和乙烯产率,增强催化剂的稳定性,采用等体积浸渍法对硅铝物质的量比为38的ZSM-5分子筛进行磷改性,对制备的催化剂进行SEM、XRD、N2吸附-脱附和NH3-TPD表征,考察不同磷含量ZSM-5分子筛对C4烯烃催化裂解反应性能的影响。表征结果表明,随着磷含量的升高,磷改性后的ZSM-5分子筛晶体结构变化不大,比表面积和孔容逐渐减小,结晶度降低,酸强度减弱,酸量减小。性能评价结果表明,随着磷含量的升高,丁烯转化率逐渐下降,丙烯和乙烯选择性、收率先升后降,磷质量分数为2%时,ZSM-5分子筛催化性能较好,相对结晶度为84.66%,平均孔径2.334 nm,孔容0.154 cm3·g-1,微孔孔容0.082 8 cm3·g-1,比表面积264.1 m2·g-1,总酸量0.559 mmol-NH3·g-1,丙烯选择性约40%,乙烯和丙烯总收率约57%。 相似文献
952.
以三乙胺为模板剂,拟薄水铝石为铝源,磷酸为磷源,在55℃恒温水热合成过程中加入硝酸铬,制备出CrAPO4-5分子筛,通过粉末X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)、氨程序升温脱附(NH3-TPD)、魔角核磁共振(MAS
NMR)等手段进行了表征,发现所合成的分子筛具有良好的晶体结构,且证明了Cr原子进入分子筛骨架.以CrAPO4-5分子筛为催化剂,以空气为氧源,考察了反应温度、时间、引发剂等因素对环己烷选择性氧化的影响.结果表明,在环己酮为引发剂情况下,反应压力为1.6MPa,温度为160℃,反应6
h后,环己烷转化率可达20.6%,醇酮总选择性为95.7%.说明CrAPO4-5分子筛具有良好选择性和活性,是一种温和的氧化催化剂. 相似文献
953.
采用动态法测定孕甾酮(progesterone)在超临界CO2溶液中的平衡溶解度,所用的压力范围为12~24 MPa,温度为313.15 K和323.15 K,结果表明其摩尔分数为5.3×10-5~8.9×10-4.实验数据经Chrastil密度型模型和Peng-Robinson状态方程模拟,均取得较好的吻合,前者归纳出孕甾酮溶解度与CO2密度之间的关系式ln y2=-73.56+8.56·ln ρ-5 733.08/T,后者可利用所得到的结果预测孕甾酮在其它条件下的溶解度. 相似文献
954.
《可编程控制器与工厂自动化(PLC FA)》2007,(4):12-12
作为工业自动化、实时控制、远程数据采集以及M2M应用的硬软件开发和制造商,Opto日前宣布发布了SNAP-PAC-EB1和SNAP—PAC—EB2 I/O智能处理器,这种高性能、网络化的I/O处理器使设计一个基于远程、分布的I/O系统变得更为简单,而且更节约成本。这些新的智能处理器是新的简化型的SNAP PAC系列产品的组成部分,是为更易于了解、选择、购买和应用的工业自动化解决方案而设计的。 相似文献
955.
许远平 《制冷与空调(四川)》2010,24(3):84-86
禁用HCFC-22的期限日益临近,而我国铁路客车空调目前仍然大量使用HCFC-22,这使我国铁路客车空调面临极大的挑战,针对这种现状提出了应采取的对策与措施。 相似文献
956.
为适应上海城市电网的发展,对原有220 kV老的变电站进行改造扩建具有不需征地、造价低、与周边环境更协调等优点.介绍了上海220 kV港口变电站改扩建工程中,使用新技术、新设备实行不停役建设的实施过程,其经验可供同类工程借鉴. 相似文献
957.
介孔分子筛具有较大的孔径以及择形活性中心,具有潜在的应用优势,因而受到越来越普遍的关注。详细探讨了其合成机理,合成过程和合成方法以及化学改性方面的研究,系统介绍了介孔分子筛的发展状况以及在催化方面的应用。 相似文献
958.
以CTAB为模板,TEOS为硅源,P25和Fe3O4纳米颗粒为功能性纳米颗粒,通过水热法一步制备出具有可回收性、光降解性和高吸附效率的介孔染料吸附材料.结果表明:所制备的材料对染料的吸附效果很好,吸附率可达99.0%;在光照下,染料可以在10 min内迅速降解;在磁场作用下,材料得以回收,并且经焙烧处理后可以重复利用;材料在重复利用5次后,吸附率为59.4%,染料在60min内可以完全降解,符合工业染料废水处理剂的要求. 相似文献
959.
Stefan Wurm 《电子工业专用设备》2010,39(2):1-5
在国际半导体技术蓝图(ITRS)指定的22nm节点中[1],该产业将在两种竞争的光刻解决方案中进行选择,这将取决于其产品的发展路线图。在某些情况下,业界甚至可能会同时使用两种方案。这两种竞争方案就是极紫外光刻技术(EUVL)和32nm节点由193nm浸没式双重图形光刻(DPL)扩展到多图形的光刻技术。讨论了两种技术,比较了两种技术所需的关键解决方案的现状,以及存在的挑战。 相似文献
960.