应用显微红外法研究头孢呋辛酯片剂晶型

制备头孢呋辛酯α和β两种晶型,将α,β和无定型三种晶型分别制成片剂.应用显微红外光谱法对不同制备工艺的头孢呋辛酯片剂中药物晶型进行研究.实验结果表明:α和β和无定型粉末压片与无定型湿法压片的片剂在60min溶出度分别为51.5±0.8%,42.3±0.8%,70.4±1.2%,61.7±1.0%.湿法压片造成片剂中部分无定型头孢呋辛酯向α晶型转变,而粉末压片未造成片剂中头孢呋辛酯晶型发生转变.应用显微红外光谱法可用于片剂中药物晶型的检测,该方法简便、可靠,可应用于片剂工业生产的在线检测.     

基于能量色散x射线荧光光谱法检测黄金饰品的方法

应用能量色散x荧光光谱法(EDXRF)分析,采用基本参数法,较好地解决了样品的大小、光洁度、形状和成分等对检测结果的影响,检测仪的高性能较好地解决了黄金饰品纯度在环境和测量条件有较大改变时对检测结果的影响,并具有较好的精密度和准确度。     

X-射线荧光光谱法测定催化剂中硫含量

采用X－射线荧光光谱中的基本参数法测定催化剂中硫元素含量，测量结果与化学分析法一致，此方法相对标准偏差小于7％，平均回收率为96％，检出限为0．01％，本方法简单，测定快速，测量结构准确。     

甲壳素脱乙酰度方法及测定比较

甲壳素是一种资源丰富、性能优良的天然多功能高分子化合物。本文探讨了甲壳素半成品的脱乙酰化条件，制备了具有不同脱乙酰度的甲壳胺样品，并应用碱量法、电位滴定法和红外光谱法测定了样品的脱乙酰度。     

C2H2／H2比率对铝合金上电弧离子镀类金刚石膜的结构和腐蚀性能的影响

本文研究了在2024铝合金衬底上，环境气氛中C2H2／H2比率对电弧离子镀沉积类金刚石膜层的结构和腐蚀性能的影响。Raman谱分析表明，随着C2H2／H2比率的降低，其D峰和G峰的强度比ID／IG值增加，这意味着膜层中sp^3／sp^2键比率减少，膜层的力学性能下降；同时，G峰的峰位向高波数方向移动，峰的半高宽变窄；D峰的峰位也在向高波数方向移动变化，但峰的半高宽变化相反，逐渐宽化。膜层可以进一步提高铝合金试样的抗腐蚀能力，从自腐蚀电位看，随着C2H2／H2比率的降低，膜层试样的抗腐蚀性能略逐渐增加。     

Study of NiSi/Si Interface by Cross-Section Transmission Electron Microscopy

采用不同硅化工艺制备了NiSi薄膜并用剖面透射电镜(XTEM)对样品的NiSi/Si界面进行了研究.在未掺杂和掺杂(包括As和B)的硅衬底上通过物理溅射淀积Ni薄膜,经快速热处理过程(RTP)完成硅化反应.X射线衍射和喇曼散射谱分析表明在各种样品中都形成了NiSi.还研究了硅衬底掺杂和退火过程对NiSi/Si界面的影响.研究表明:使用一步RTP形成NiSi的硅化工艺,在未掺杂和掺As的硅衬底上,NiSi/Si界面较粗糙;而使用两步RTP形成NiSi所对应的NiSi/Si界面要比一步RTP的平坦得多.高分辨率XTEM分析表明,在所有样品中都形成了沿衬底硅〈111〉方向的轴延-NiSi薄膜中的一些特定晶面与衬底硅中的(111)面对准生长.同时讨论了轴延中的晶面失配问题.     

钢中硼相分析方法的研究

在弱酸性的氯化钾-柠檬酸电解液中电解提取钢中所有硼的析出相,然后用稀硫酸分离碳硼化物,硫酸-过氧化氢分离合金元素硼化物,硝酸-硫酸分解氧化硼和氮化硼,最后采用ICP-AES光谱法测定各相中硼的含量.通过实验,建立了一整套低硼钢中固溶硼、碳硼化物、合金元素硼化物、氧化硼和氮化硼的分离、测定方法.     

岛津多道X射线荧光光谱仪测定高炉渣中硅钙镁铝钛

自制样品,粉末压片,用X荧光光谱仪测定炉渣中的硅钙镁铝钛,试验确定了炉渣试样粒度,压片压力,压片时间。试验测定结果与熔样法测定结果对得很好。分析结果准确,快速,成本低。适合高炉昼夜连续生产的需要。     

应用AFS—930型双道原子荧光光度计联合测定水中的砷和硒

本文采用原子荧光光谱法,研究了联合测定水样中砷和硒的技术。用10%盐酸和1%硫脲-1%抗坏血酸混合试剂处理样品,并以2.0%硼氢化钾和0.5%氢氧化钠为还原剂,在5%的盐酸介质测定砷和硒。砷和硒的检出限分别为:0.20μg/L和0.13μg/L,本方法具有操作简便、快速、基体干扰少、灵敏度高等优点,可用于水样中砷和硒的联合测定。     

双硫腙泡塑吸附-化学光谱法定量测定痕量金

文中以泡沫塑料为载体,负载一定量的双硫腙,制成双硫腙负载泡沫塑料;经静态吸附后,以背景做内标,采用发射光谱定量分析测定了化探样品中的痕量金.通过标准样品回收实验及对国家级化探金标准物质进行分析测定,表明该方法具有较好的精密度和准确度,检出限为0.3×10-9,加入标准样品回收率在97%～103%,相对标准偏差RSD(n=10)为7.9%～21.4%,满足15万化探样品中痕量金的分析测定要求.