薄膜微型电源

介绍了新型的薄膜微型电源的工作原理、结构及制造工艺。     

High-pressure dc sputtering of High-Tc BPSCCO thin films withTc(0) above 100 K

High-T _c Bi(Pb)-Sr-Ca-Cu-O thin films have been made on single-crystal MgO substrates using high-pressure dc sputtering technique. X-ray studies confirm the crystallinity and highly oriented structure withc-axis perpendicular to the substrate. By optimizing the annealing schedule the formation of the high-T _c phase is stabilized. The best film exhibited superconducting transition temperature with zero-resistance temperature,T _c(0), as high as 101 K. Temperature dependence ofJ _c indicates the presence of Josephson-type weak links.     

1477 nm LD泵浦掺铒光纤放大器的研究

报道了采用１４７７ｎｍ激光二极管（ＬＤ）泵浦的掺铒光纤放大器的实验结果。研究了放大器的增益和时域特性。对１５２０ｎｍ的信号光，获得了２３ｄＢ的增益，泵浦效率为２．２８ｄＢ／ｍＷ。低频脉冲信号经过放大器后未发生波形畸变。     

被动锁模复合环形腔掺饵光纤激光器的自启动分析

本文对被动锁模复合环形腔掺饵光纤激光器的自启动工作特性进行了分析，指出谐振腔内残余反射面的存在是阻碍激光器实现自启动锁模的主要原因。利用半导体激光器有源区的折射率随注入电流的变化而改变的特性，在谐振腔中获得了一个可移动腔镜，克服了腔内残余反射面的影响，实现了锁模的自启动。     

超声波对化学镀Ni－Cr－P非晶态薄膜的金刚石性能的影响

研究了超声波对化学镀Ｎｉ－Ｃｒ－Ｐ非晶态薄膜的金刚石性能的影响。结果表明，超声波可使金刚石表面非晶态薄膜更加均匀和致密，从而提高了抗压强度，氧化温度和晶化后的强度。随超声波频率的增加，金刚石性能有增加的趋势。     

氧化铝丝的研制

氧化铅丝生产过程中最关键的工艺是连续阳极氧化。氧化膜击穿电压决定于氧化膜厚度。控制膜厚度的三要素为:电解液(成份、浓度及温度),槽电压和铝丝走速。     

非晶硅基薄膜的等离子体刻蚀光发射谱检测

本文研究了采用锁定放大相干检测技术的等离子体光发射谱检测系统。用该系统检测了仅用CF4作为刻蚀气体刻蚀非晶硅基薄膜的等离子体光发射谱。分析了检测结果和刻蚀机理。     

精轧油膜轴承密封失效机理的初步分析

对油膜轴承密封出现的进水、漏油现象作了大量的调查、测量和统计分析，找出了产生质量事故的根本原因，提出了解决措施。     

薄膜磁头磁轭制备工艺研究

本文重点讨论了用不同的工艺方法来制备薄膜磁头中的关键元件-磁轭。采用多次光刻的方法克服湿法工艺中磁性膜NiFe层的侧向钻蚀问题，从而实现对磁轭几何尺寸的精确控制，并对几种工艺方法的优缺点作了比较详细的分析。     

用于多种组装技术的厚膜导体复合结构

厚膜导体Ｐｄ－Ａｇ／Ａｕ、Ｐｔ－Ｐｄ－Ａｕ／Ａｕ平面复合结构，Ｐｄ－Ａｇ／Ａｕ立体复合结构可使多种组装技术相互兼容。立体复合结构还可有效地降低导体线电阻，减少线损耗。而且，其超声键合性尤佳