全文获取类型
收费全文 | 30196篇 |
免费 | 1035篇 |
国内免费 | 2729篇 |
专业分类
电工技术 | 1060篇 |
技术理论 | 2篇 |
综合类 | 1704篇 |
化学工业 | 5369篇 |
金属工艺 | 2724篇 |
机械仪表 | 1479篇 |
建筑科学 | 521篇 |
矿业工程 | 170篇 |
能源动力 | 598篇 |
轻工业 | 1324篇 |
水利工程 | 150篇 |
石油天然气 | 354篇 |
武器工业 | 174篇 |
无线电 | 7365篇 |
一般工业技术 | 9128篇 |
冶金工业 | 603篇 |
原子能技术 | 449篇 |
自动化技术 | 786篇 |
出版年
2024年 | 158篇 |
2023年 | 463篇 |
2022年 | 581篇 |
2021年 | 650篇 |
2020年 | 480篇 |
2019年 | 533篇 |
2018年 | 337篇 |
2017年 | 454篇 |
2016年 | 456篇 |
2015年 | 622篇 |
2014年 | 1380篇 |
2013年 | 1120篇 |
2012年 | 1597篇 |
2011年 | 1614篇 |
2010年 | 1503篇 |
2009年 | 1803篇 |
2008年 | 2111篇 |
2007年 | 1921篇 |
2006年 | 1844篇 |
2005年 | 1704篇 |
2004年 | 1553篇 |
2003年 | 1252篇 |
2002年 | 1118篇 |
2001年 | 1075篇 |
2000年 | 979篇 |
1999年 | 762篇 |
1998年 | 779篇 |
1997年 | 711篇 |
1996年 | 661篇 |
1995年 | 692篇 |
1994年 | 603篇 |
1993年 | 514篇 |
1992年 | 487篇 |
1991年 | 537篇 |
1990年 | 433篇 |
1989年 | 392篇 |
1988年 | 22篇 |
1987年 | 25篇 |
1986年 | 8篇 |
1985年 | 5篇 |
1984年 | 5篇 |
1983年 | 4篇 |
1982年 | 5篇 |
1981年 | 2篇 |
1980年 | 3篇 |
1960年 | 1篇 |
1959年 | 1篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
101.
102.
本文研究了TiN薄膜在化学气相沉积、物理气相沉积(包括热灯丝离子镀和多弧离子镀)以及等离子增强化学气相沉积等不同生成条件下的内应力变化。并通过改变钢及硬质合金基体的化学成份和表面状态。考察了基体材料对薄膜应力的影响。在此基础上,对薄膜内应力的形成机制进行了分析讨论。 相似文献
103.
含淀粉聚乙烯膜的时控光降解研究 总被引:2,自引:0,他引:2
使用复合光降解剂,得到了可光降解的生物降解膜。对膜的光降解进行了考察,并对影响光降解的因素进行了讨论,结果表明,我们所制得的膜是一种较好的时控光降解膜。 相似文献
104.
SnO2光敏,气敏元件的性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
报道了用常压蒸发法制备的SnO2薄膜的光敏性能和用烧结法制备的圆珠状气敏元件的气敏性能。初步探讨了其结构与机理。指出进行集光敏、气敏全一体的传感器的研究。 相似文献
105.
扫描电子显微研究表明,化学汽相沉积的金刚石薄膜中晶粒大小比较均匀。但随着沉积时间和薄膜厚度的增加,晶粒逐渐变大,且每一层内,存在少量的大金刚石颗粒,讨论了晶粒尺寸变化和大晶粒形成的原因和机制。 相似文献
106.
氮化硅的应力严重制约着它的应用,但常见资料对氨化硅应力的分析颇略。本文较详细地介绍了PECVDSixNy,薄膜应力大小与制备工艺的关系,从而揭示了能有效地抑制SixNy应力的工艺途径。文中给出了大量数据,对许多实际问题进行了讨论。 相似文献
107.
108.
109.
采用扩散掺铝方法可以显著降低Cr-SiO薄膜电阻的温度系数,1~5kΩ/□,TCR≤±500×10(-6)℃(-1);10kΩ/□,TCR≤±100×10(-6)℃(-1)。该方法尤其适用于设备较为简单的蒸发镀膜工艺。 相似文献
110.