低掺杂浓度Nd:YVO4激光器的输出特性研究

在对Nd:YVO_4晶体的掺杂浓度和晶体长度对激光器性能的影响进行了分析后,报道了利用掺杂浓度为0.3at％,通光长度为10mm的Nd:YVO_4晶体作为增益介质,带光纤耦合的激光二极管端面抽运的Nd:YVO_4激光器。在抽运功率为27.365W时,获得了14.85W的TEM_(00)模输出,光一光转换效率为60.49％,斜效率达64.5％。     

LaNiO3薄膜热稳定性的研究

LaNiO3导电金属氧化物薄膜在现代应用科学研究中作为电极和过渡阻挡层倍受青睐，它具有很好的导电特性和稳定性。该文采用射频溅射法制备了具有(100)择优取向的赝立方结构LaNiO3-x薄膜，并进行了原位热处理。实验结果表明，在265℃的处理条件下，LaNiO3薄膜表现出不稳定性，晶格中的氧在2h内失去了2.7％。氧的损失对品格结构没有明显影响，但薄膜的导电性能明显下降，折射率和消光系数也具有相同幅度的下降。对薄膜的应用具有一定的影响。该文从LaNiO3薄膜的导电机理方面对实验现象给出了分析和解释。     

声光器件的换能器带宽—换能器增透膜系的选择

通过计算机编程运算ＴＬ－Ｆ曲线来讨论换能器的带宽，实现了声增透膜系的选择。     

镨掺杂分布对1.3μm光纤放大器特性影响

对掺氟化镨玻璃光纤放大器的小信号增益，用广义的高斯近似公式可获得精确的分析表达。文中研究了限制光纤芯层中央部分的镨掺杂对光纤放大器特性的影响，结果发现限制镨掺杂分布能改进光纤放大器的工作效率，且截止波长比芯层全部均匀掺镨的光纤更长。     

椭球反射镜膜厚均匀性

本文分析了椭球反射镜膜层厚度均匀性对反射率的影响,从理论上得到膜厚计算公式。根据计算的膜厚分布设计了遮蔽板,获得较好的反射特性。     

Surface structure of silver thin films on In2O3:Sn and Al2O 3 †

Surface structure of thin silver films (200 Å) on two technologically important films, indium tin oxide (ITO) and aluminium oxide, has been studied using scanning tunneling microscope. ITO films were prepared by reactive electron beam evaporation. Aluminium oxide films were prepared by oxidizing 2000 Å thick aluminium films evaporated on to H₂ terminated single crystal silicon substrates. The surface structure of silver on ITO and aluminium oxide appeared to be same and was characteristic of Stranski-Krastanov type. The observed asymmetry in the island shape was attributed to the anisotropic nature of the strain fields surrounding the nucleation centres.     

含淀粉聚乙烯膜的时控光降解研究

使用复合光降解剂，得到了可光降解的生物降解膜。对膜的光降解进行了考察，并对影响光降解的因素进行了讨论，结果表明，我们所制得的膜是一种较好的时控光降解膜。     

金刚石薄膜中晶粒尺寸的研究

扫描电子显微研究表明，化学汽相沉积的金刚石薄膜中晶粒大小比较均匀。但随着沉积时间和薄膜厚度的增加，晶粒逐渐变大，且每一层内，存在少量的大金刚石颗粒，讨论了晶粒尺寸变化和大晶粒形成的原因和机制。     

Deformation analysis of skew ruled surface shells by moiré interference

The use of thin film grids coated on surfaces is described in relation to the determination of deformations in doubly curved shells. The technique is called the coating film moiré interference method and employs a laser holographic approach.     

氧化锌压敏陶瓷烧结致密化过程的研究

本文研究了氧化锌压敏陶瓷的致密化过程，结果发现只有当烧结温度升高到一定值时，试样中的ＺｎＯ粉粒产生聚集，致密化过程才开始．致密化是瓷体获得稳定电性能的基础．低熔点添加剂Ｂ２Ｏ３可以降低致密化的起始温度，而致密化过程中的等温烧结对ＺｎＯ压敏陶瓷的最大密度几乎没有影响．