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641.
在激光退火处理掺氟二氧化锡(FTO)透明导电薄膜过程中引入超声振动, 研究了超声振动辅助激光退火对FTO薄膜晶体结构、表面形貌和光电性能的影响。结果表明: 与未施加超声振动时相比, 该方法可使薄膜上下位移而引起激光聚焦状态发生连续变化, 由此保证薄膜处于最佳退火范围内, 同时还可使薄膜表面激光熔融区域的颗粒被振动分散, 由此抑制颗粒团聚, 提高颗粒分布的均匀性和致密度, 最终有效地改善薄膜的光电性能。当振动功率为300 W时, 薄膜表面结构最为均匀、致密和平整, 此时光电性能达到最佳, 它在400~800 nm波段的平均透光率为84.7%, 方块电阻为9.0 Ω/□。  相似文献   
642.
为研究CaF2对高温自蔓延合成(SHS)法制备纳米二氧化锡的影响,本文进行了6组关于CaF2添加量与SnO2纳米线产量的平行实验以及1组验证实验,并利用X射线衍射分析及扫描电子显微镜对产物进行表征.实验结果表明:(1) CaF2的添加量与产物的产量之间存在指数关系,且在CaF2添加量为1.5%时,产量实现最大化;(2) CaF2的添加能够提高产物的纯度,并且不改变产物原有的一维纳米形貌.  相似文献   
643.
镀SiO2膜玻璃基片上SnO2:Sb薄膜的溶胶-凝胶法制备及表征   总被引:1,自引:1,他引:0  
用溶胶-凝胶法在已镀SiO2膜的钠钙硅玻璃和没有镀SiO2的钠钙硅玻璃基片上镀制了锑掺杂摩尔分数为8.0%的二氧化锡薄膜。对不同热处理温度下薄膜样品的结构和性能进行了表征。结果表明:在673~823K范围内热处理60min时,薄膜以四方相金红石结构存在;随着热处理温度的提高,晶面衍射峰由宽化趋向尖锐,结晶逐渐完善;薄膜中的Sn以 4价的形式存在,掺杂的Sb以 5和 3价形式存在;当温度为673K和723K时,凝胶中的C没有完全燃尽,以C—O和C—O形式存在于薄膜中。镀膜样品的可见光平均透过率随热处理温度的升高而增大;在热处理温度相同时,预先镀有SiO2膜的玻璃基片上制备的锑掺杂二氧化锡(ATO)薄膜的方块电阻较没有镀SiO2的小。  相似文献   
644.
645.
以水合氯化亚锡、乙二醇和水为原料,常压下经微波加热制备了粒径均匀的纳米SnO2颗粒,并将其应用到催化剂Pt-SnO2/C中。通过XRD和TEM对制备的SnO2颗粒和催化剂的微观结构进行表征,结果表明,微波辅助合成的SnO2为四方晶相,大小约为2.0nm,粒径均一。循环伏安和计时电流测试表明Pt-SnO2/C比商业化催化剂具有更高的乙醇催化氧化活性。  相似文献   
646.
以SnCl4.5H2O和MnCl2.4H2O,MgCl2.6H2O为主要原料,采用溶胶-凝胶法分别成功合成了纯二氧化锡的纳米粉体及纳米级的镁掺杂和锰掺杂的二氧化锡纳米颗粒,分别研究了掺杂不同含量的金属镁和锰的二氧化锡粉体的光谱性能。另外,通过X-射线粉末衍射仪(X-ray diffractometer,XRD)、红外光谱(IR)、紫外-可见光谱(UV-vis)、差热-热失重(DSC-TG)等多种测试手段对制备的样品晶相、热稳定性及吸收光谱进行了研究。  相似文献   
647.
研究了低氧分压反应溅射法生长的SnO2薄膜于600℃ O2气氛和Ar气氛退火处理后的表面形貌、晶体结构以及表面成分,发现经氧化性气氛退火处理的SnO2为具有金红石结构的表面多孔薄膜.相比较而言,Ar气氛退火处理后的SnO2薄膜表面较为致密,相结构包含朱氧化完全的β-Sn.XPS分析进一步表明,氧化性气氛退火形成单一组分的SnO2,而惰性气氛退火后薄膜表面含有Sn、SnO和SnO2.另外,研究还发现薄膜表面吸附氧形态与退火气氛有关.  相似文献   
648.
通过共沉淀法制备了掺氧化锌的二氧化锡超细粉体,平均粒径为20nm,并制得氧化锡电极样品.主要研究了在氧化锡电极中添加不同含量的ZnO对电极烧结性能的影响情况,分析电极的力学性能、电学性能以及微观结构,结果表明,一定量ZnO掺杂有利于提高SnO2电极的烧结致密化,同时也提高了SnO2电极的导电性.  相似文献   
649.
采用无机纳米锑掺杂二氧化锡(ATO)和有机聚醚酯(PEE)协同提高聚对苯二甲酸乙二酯(PET)的抗静电性能,合成了聚对苯二甲酸乙二酯-聚醚酯/锑掺杂二氧化锡纳米复合材料(PET-PEE/ATO)。使用Ozawa方程和Liu-Mo方程研究了PET-PEE/ATO纳米复合材料的非等温结晶过程。Ozawa方程研究发现,在非等温结晶过程中,PET、PET-PEE、PET/ATO、PET-PEE/ATO的成核性能依次提高。Liu-Mo方程发现,ATO和PEE的加入分别促进了异相成核作用和加快了结晶生长,PET-PEE/ATO结晶成核性能最好,结晶速率最快。  相似文献   
650.
二氧化锡纳米薄膜的AFM研究与气敏性能测试   总被引:1,自引:0,他引:1  
以SnC l2.2H2O为反应前驱物,采用溶胶-凝胶法制备了二氧化锡纳米薄膜,对薄膜制备过程中原料的浓度、陈化时间、提拉速度、烧结温度、烧结时间等影响因素进行了系统的研究,获得了较佳的制膜工艺条件,并测试了SnO2薄膜在室温下的气敏特性.结果表明,当Sn2+浓度为0.1 mol/L,陈化时间为60 h左右,提拉速度为80 mm/m in,烧结温度为500℃,烧结时间为30 m in时,制备出了高质量的SnO2纳米薄膜,成膜粒子均匀,粒径小,约为2 nm,而且薄膜对2~10 mg/L的乙醇和丙酮都有较好的敏感性和响应-恢复特性.  相似文献   
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